光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力；并且其設備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術、的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-400M
廠家鏈接：.cn/
MDA-400M
易于操作和安裝，處理各種尺寸的基板，帶觸摸屏面板的PLC控制
?全手動類型
?掩模版尺寸達5英寸
?基板尺寸為4英寸圓形
?均勻光束尺寸4.25*4.25英寸
?光源：紫外線燈，350 W
?光束波長350~450 nm
?光束均勻性<±3%
?365 nm強度 ~25 mW/?
?手動對準
?對準精度1 um
?操作模式：軟、硬、真空接觸和接近
?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度，帶真空觸點
?尺寸（mm）1080（寬）*1060（深）*1580（高）
