光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-12SA
廠家鏈接：.cn/
操作簡單，可編程控制器（PLC）操作，PC控制，圖像采集和數據記錄，100多個程序配方，電動操縱桿控制，電動變焦顯微鏡和工作臺，顯微鏡位置控制系統
?操縱桿控制，半自動
?掩模版尺寸高達14英寸
?基板尺寸8~12英寸
?均勻光束尺寸13.25*13.25英寸
?紫外線光源：紫外線燈，2 kW，5 kW
?光束波長：350~450 nm
?光束均勻性：<±5%
?365 nm強度：2 kW:~25 mW/?，5 kW:~45 mW/?
?定位方法：操縱桿控制，半自動
?對準精度：1 um
?操作模式：軟、硬、真空接觸和接近
?工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸
