MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實驗室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè)，始終致力于不斷完善、增強技術(shù)型企業(yè)的核心競爭力。
MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設(shè)計團隊，以客戶需要為己任，生產(chǎn)、供應滿足國內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。
MDE-200SC型曝光機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。
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MDE-200SC
易于操作和安裝，處理各種尺寸的基板，掃描和步進式曝光
類型：掃描步進曝光
掩模版尺寸：大尺寸訂制
基板尺寸：大尺寸訂制
均勻光束尺寸：大尺寸訂制
紫外光源：紫外燈，1KW
光束波長：350~450nm
光束均勻度 <±5%
365 nm強度 ~25 mW/?
對齊方式：無對準
對準精度：無對準
加工方式：軟、硬、真空接觸、接近
工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸
