PL SERIES
Midas推出了一種臺式、獨立的納米壓印平臺:PL系列PL 200/400/600。該平臺提供了一個帶有微定位裝置的機械平臺,用于安裝納米壓印室、UV固化源和校準顯微鏡。它既可以作為納米壓印系統,也可以作為傳統的掩模對準器,同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控制。
?基板尺寸 PL 200:2英寸,PL 400:4英寸,PL 600:6英寸(尺寸較小,形狀不規則)
?壓印面積與晶圓尺寸相同
?模板尺寸 PL 200:2,1英寸,PL 400:4,3,1英寸,PL 600:6,4,2,1英寸
?壓印壓力1 psi標準
?包括模具/基板自動釋放-無需特殊工具
?95%強度水平下的紫外線照射時間2~3分鐘
?對準能力X、Y、Z和θ(精度2μm)