光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
型號:MDA-80SA
廠家鏈接:.cn/
易于操作的用戶界面,PLC操作與PC控制,圖像抓取和數據日志,100多個程序配方,電動操縱桿控制,電動變焦顯微鏡和樣品臺
?操縱桿控制,半自動
?掩模版尺寸高達9英寸
?基板尺寸6~8英寸
?均勻光束尺寸10.25*10.25英寸
?紫外線光源:紫外線燈,2 kW
?光束波長350~450 nm
?光束均勻性<±5%
?365 nm強度~25 mW/?
?定位方法:操縱桿控制,半自動
?對準精度1 um
?操作模式:軟、硬、真空接觸和接近
?工藝分辨率:1 um@1 um PR厚度,真空接觸