SEMICON CHINA
SEMICON CHINA 2021將于3月17日-19日在上海新guo際博覽中心如期舉行。作為中國的半導體行業盛事，囊括當今世界上半導體制造領域主要的設備及材料廠商，該展會將為業內人士提供高效交流、洞悉行業動態的有效平臺。
在此，賽默飛世爾科技誠邀您蒞臨我們的展位（展位號：N5135），觀摩我們的指尖實驗室，與我們的技術專家共同探討失效分析解決方案。我們將展示針對半導體制造商和電子行業的先分析流程，助您加快產品缺陷識別和研發進程，實現過程監控、良率提升，及時搶占市場！
賽默飛半導體雜質檢測
quan方位解決方案
Dionex ICS-6000 HPIC高壓離子色譜系統
廣泛應用于離線和在線監控fab AMC，超純水中陰、陽離子的監控以及高純試劑（酸、堿和有機溶劑）中陰、陽離子分析。通過zhuan利的在線電解淋洗液發生器實現無需手動配置淋洗液，實現操作更簡單，測試結果更穩定。
iCAP™ TQ ICP-MS
廣泛應用于半導體行業金屬離子痕量分析檢測。標配4路碰撞反應氣體，*消除多原子離子干擾；標配有機加氧裝置，可直接分析半導體行業的有機試劑樣品。開放的硬件設計，使得ICPMS操作更簡單，維護更方便。
Element XR HR-ICP-MS
高分辨電感耦合等離子體質譜儀
高分辨率可達10000，可區分質量數小于0.01 amu的質譜干擾，真正實現無干擾分析，并減少復雜的樣品制備和方法開發過程。應用：高純試劑、高純材料、高純氣體中痕量元素準確定量。
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Element GD Plus GD-MS
輝光放電質譜儀
高純固體樣品直接分析，*減少樣品處理步驟，降低沾污風險。
熱門應用：
賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS檢測高純Si中的Fe、Cu、Ti的深度分布
Fe、Cu、Ti（<10 ppbw）是對太陽能電池性能損害最大的金屬雜質：
Fe、Cu在Si中會快速擴散，屬于間隙雜質；
Ti擴散速度慢，會占據Si晶格的取代位點（類似B、P摻雜元素）。
賽默飛ELEMENT GD Plus GD-MS半導體檢測高純硅，高純碳化硅，砷化鎵等，雜質含量的檢出限可達到ppb及ppb以下。高純靶材中痕量雜質的檢測及純度鑒定，如銅，鈦，鋁，鉬及ITO等靶材，可實現6N+純度的鑒定。高純石墨及石墨粉的雜質含量檢測及純度鑒定，可實現6N+純度的鑒定。
提前注冊享好禮
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