該設備為高真空電子束蒸鍍設備，即利用高能量密度的電子束轟擊被鍍材料，使其氣化并沉積在基片表面；此設備為在石英或其它材料表面沉積鎳鉻合金或其它單金屬、合金；設備由立式前開門水冷真空室、真空系統、工裝系統、電子束沉積系統、離子轟擊系統、加熱系統、測量及監控系統、電控系統、輔助系統（機架、工藝氣路、壓空氣路、冷卻水路、附件）等組成。
性能參數：
1）沉積材料：CrNi合金（Cr80Ni20）；
2）膜厚儀：分辨率0.01埃；
3）具備輝光放電功能：電壓3KV，功率600W，320mA，工作壓力2.0x10-2mbar；
4）膜層均勻性：±5%；
5）極限真空：8.0x10-5pa；
6）本底真空：5x10-4Pa，到達時間：≤30min ；
7）設備內腔尺寸：Φ800x1000；
8）電子槍：Φ50X25，10KW，270°偏轉；電子槍帶滅弧和可編程掃描功能；
9）工件轉架：工件可實現公自轉，雙層擺放沉積不同表面，微孔內沉積深度由工件擺放角度決定；公轉速度：1-10rpm；
10）加熱溫度：max300℃，工作200℃；均勻性±2℃；
11）控制系統：PC+PLC，可自動、手動控制方式轉換，多種互鎖保護，具備多種參數顯示功能及工藝菜單儲存能力；
