美Nano-master ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)：
NLD-4000 獨(dú)立式ALD系統(tǒng)
NLD-3500 緊湊型獨(dú)立式ALD系統(tǒng)
NLD-3000 臺(tái)式ALD系統(tǒng)
NLD-4000是一款獨(dú)立式計(jì)算機(jī)控制的ALD系統(tǒng)，全自動(dòng)工藝控制并包含完整的安全連鎖功能，能夠沉積半導(dǎo)體應(yīng)用中的氧化物和氮化物（比如AlN, GaN, TaN, TiN, Al2O3, ZrO2, LaO2, HfO2），支持太陽(yáng)能和MEMS等眾多領(lǐng)域的應(yīng)用。
系統(tǒng)包含一個(gè)13”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，具有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋，可一鍵式實(shí)現(xiàn)頂蓋的開(kāi)啟/閉合，便于放取片。隨系統(tǒng)配套手套箱，可以支持最多七路加熱或冷卻的50cc容器用于前驅(qū)體或者反應(yīng)物，并集成了快速脈沖傳輸閥用于氣體脈沖輸出。沒(méi)有反應(yīng)掉的前驅(qū)體將被加熱過(guò)濾器所捕捉，該過(guò)濾器安裝在腔體排風(fēng)口。
工藝程序、溫度設(shè)定值、氣體流量、抽真空卸真空工序，以及傳輸管路的吹掃均通過(guò)LabView軟件全自動(dòng)控制。
選配項(xiàng)包含自動(dòng)上下片（系統(tǒng)占地面積不變）、遠(yuǎn)程平面ICP等離子源用于等離子增強(qiáng)ALD（平面ICP的構(gòu)造確保小的反應(yīng)腔體容積，這實(shí)現(xiàn)更快的循環(huán)時(shí)間），以及渦輪分子泵用于更低的極限真空。
特點(diǎn)：
** 低于1Å的均勻度
** 優(yōu)化的13”陽(yáng)極氧化鋁腔體
** 小反應(yīng)腔體容積確保快速的循環(huán)時(shí)間并提高產(chǎn)能
** 可支持8”的基片
** 400°C基片加熱器
** 隨系統(tǒng)配套前驅(qū)體手套箱
** 做多支持七路50cc前驅(qū)體容器
** 300L/Sec抽速的磁懸浮分子泵組
** 極限真空可達(dá)5x10-7Torr
** 快速脈沖氣體傳輸閥
** 大面積過(guò)濾器用于捕捉未反應(yīng)的前驅(qū)體
** 高深寬比結(jié)構(gòu)的涂覆
** 全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制，菜單驅(qū)動(dòng)
** LabVIEW友好用戶界面
** EMO和安全互鎖
** 占地面積僅24”x44”帶封閉面板的柜體對(duì)超凈間很理想
選配：
** 下游式平面ICP遠(yuǎn)程等離子源用于PE-ALD工藝
** RF離子源用于無(wú)需要求超高密度的PE-ALD工藝
** 自動(dòng)上下片
** 增加額外的前驅(qū)體
應(yīng)用：
** 高K介質(zhì)
** 疏水性涂覆
** 鈍化層
** 高深寬比擴(kuò)散阻擋層的銅連接
** 微流控應(yīng)用的保形性涂覆
** 燃料電池中諸如催化層的單金屬涂覆
