桌面型原子層沉積系統(tǒng)由哈佛大學納米科學中心薄膜沉積工藝研究科學家Dr. Philippe de Rouffignac設計，基于多年納米薄膜制備的豐富經(jīng)驗以及對科研工作者切實研究需要的了解，推出了此桌面型、高性能的原子層沉積系統(tǒng)。設備自2015年在CNS安裝以來，到目前為止已有超過上千人次使用，人性化的設計、操作便捷。
設備資料
主要特點：
1. 腔室專為R&D設計和優(yōu)化，樣品尺寸達直徑4’’,可升級至6''；
2. 反應腔溫度可控范圍：RT-350℃；
3. 前驅(qū)體源溫度可控范圍：RT-150℃；
4. 腔室處理壓力可控范圍：0.1-1.5 torr；
5. 源擴展多達5個；
6. 快速循環(huán)處理功能；
7. 氣路優(yōu)化設計、腔體小型化設計；
8. 一分鐘多達6-10；
9. 成熟的薄膜Recipes內(nèi)置程序；
10. 觸屏PLC控制；
11. 可配套手套箱使用；
12. 可配備臭氧發(fā)生器；
可處理材料：
| MATERIAL CLASS | STANDARD RECIPES | RECIPES IN DEVELOPMENT | SYSTEM CAPABLE MATERIALS |
| Oxides (AxOy) | Al, Si, Ti, Zn, Zr, Hf | V, Y, Ru, In, Sn, Pt | Li, Be, Mg, Ca, Sc, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ga, Sr Nb, Rh, Pd, Sn, Ba, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd |
| Elementals (A) | Ru, Pd, Pt, Ni, Co | Rh, Os, Ir | Fe, Cu, Mo |
| Nitrides (AxNy) | Zr, Hf, W | Ti, Ta | Cu, Ga, Nb, Mo, In |
| Sulfides (AxSy) | Ca, Ti, Mn, Cu, Zn, Sr, y, Cd, In, Sn, Sb, Ba, La, W | ||
| Other Compounds | AZO (AL:ZnO), AxSiyOz ()A=Al, Zr, Hf | YSZ (yttria stabilized sirconia) ITO | Many others |
