該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR)
波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等;
藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波長范圍(200-1700nm):
系統性能參數:
精度 | <0.1nm or 0.01% |
準確度 | <0.2% or 1 nm |
穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
光斑直徑 | 標準2mm, 可以小至3um |
樣品大小 | 大于1 mm |
測量指標:薄膜厚度,光學常數
界面友好強大: 一鍵式測量和分析。
實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。
技術參數:
測量范圍 | 1nm-50um 或1nm-150um |
精度 | <0.1nm or 0.01% |
準確度 | <0.2% or 1 nm |
穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
波長范圍 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
光譜儀和檢測器 | F4光譜儀,3600像素CCD檢測器,16位深 |
F3光譜儀,512像素InGaAs 檢測器 |
光譜分辨率 | 2nm(UVVis),4nm(NIR) |
光源 | 20W鹵鎢燈(添加氙),色溫3100,壽命:2000小時 |
(內部結構示意圖)
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