日立ArBlade 5000離子研磨系統(tǒng)能夠實現高產量，并制備廣域橫截面樣品。
離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個領域的研發(fā)和質量控制等。
與機械拋光不同，離子研磨系統(tǒng)處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此，用于預處理樣品的離子銑削系統(tǒng)的應用范圍不斷擴大，不僅包括掃描電子顯微鏡（SEM），還包括原子力顯微鏡（SPM / AFM）等。離子銑削系統(tǒng)應用范圍廣泛，日立高新收集了用戶在各種領域提供的關鍵性建議和改進，并將它們納入到的設計平臺。
新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能，能夠進行橫截面研磨，是日立離子研磨系統(tǒng)的標志。此功能使樣品能夠根據所需的目的和應用進行預處理。
ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍技術設計。這是一種新的氬離子槍，可以實現了1mm/hr以上的截面銑削速度（日立高新的IM4000Plus型號的兩倍）。新系統(tǒng)使用戶能夠在比以前更短的時間內準備橫截面，包括陶瓷和金屬等硬質材料，這往往需要較長的加工時間。
此外，日立高新開發(fā)了全新的寬區(qū)域橫截面研磨，以實現橫截面研磨，研磨寬度為8mm，從而可以制備比以往更大的截面樣品。通過與下一代氬離子槍的協同效應，新的ArBlade 5000可以與市場上可用的任何其他離子系統(tǒng)一起制備廣域橫截面樣品。
主要特點
1.能夠進行橫截面和平面的混合研磨系統(tǒng)。
2.通過PLUS II離子槍技術設計高速氬離子槍實現1mm/hr或更高的橫截面研磨速度。
3.通過使用廣域橫截面研磨，實現寬度達8mm的廣域加工。
4.基于采用LCD觸摸面板的全新控制系統(tǒng)，增強了可操作性。
| 通用 | |
|---|---|
| 使用氣體 | Ar(氬)氣 |
| 加速電壓 | 0～8 kV |
| 截面研磨 | |
| 研磨速率(材料Si) | 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1 |
| 研磨寬度 | 8 mm*2 |
| 樣品尺寸 | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
| 樣品移動范圍 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
| 離子束間歇加工功能 | 標準配置 |
| 擺動角度 | ±15°、±30°、±40° |
| 平面研磨 | |
| 加工范圍 | φ32 mm |
| 樣品尺寸 | φ50 × 25(H) mm |
| 樣品移動范圍 | X 0～+5 mm |
| 離子束間歇加工功能 | 標準配置 |
| 旋轉速度 | 1 r/m、25 r/m |
| 傾斜角度 | 0～90° |
*1
Si突出遮擋板邊緣100 µm，1個小時加工深度
*2
使用廣域截面研磨樣品座時
選配
| 項目 | 內容 |
|---|---|
| 高耐磨遮擋板 | 耐磨遮擋板是標準遮擋板的2倍左右(不含鈷) |
| 加工監(jiān)測用顯微鏡 | 放大倍率 15×～100× 雙目型、三目型(可加裝CCD) |
