| | 設備簡介： 雙溫區的PECVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、可定位的獨立滑動式燒結爐、高精度質量流量混合系統、穩定防反油真空系統。此款PECVD可用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜。 | |||
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配置詳情
| | 1. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染； 2. 上開啟式結構，方便觀察試樣； 3. 產品采用全自動控制方式，觸摸屏，數字化顯示； 4. 可通過爐體滑動來達到快速升溫和快速降溫的效果； 5. 穩定的射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質量； | |||||||
| 產品型號 | NBD-PECVD1200-50IIT | |||||||
| 電氣規格 | AC220V 3KW 射頻功率：300或500瓦 13.56Mhz | |||||||
| 可達溫度 | 1200 ℃ （<1小時） | |||||||
| 連續溫度 | 1100 ℃ （連續） | |||||||
| 可達加熱速率 | ≤ 20 ℃/分鐘 | |||||||
| 加熱區長度 | 200mm+200mm（兩個加熱溫區分別加熱，分體式設計使溫度梯度可以達到極限） | |||||||
| 爐管尺寸 | Φ50*1800mm | |||||||
| 射頻線圈 | | 采用多節點鍍銀的水冷銅線圈，可匹配不同頻率的射頻電源 | ||||||
| 控制系統 | | 1.可預存15條溫度曲線，避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩； 2.實驗過程更加直觀，操作更加便捷； 3.可另選配無線控制模塊，實現遠程操控； 4.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等。 | ||||||
| 溫度精度 | +/- 1 ℃ | |||||||
| 加熱元件 | | Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金 | ||||||
| 密封系統 | | | ||||||
| 真空度：≤10Pa（機械泵），達到啟輝條件。 | ||||||||
| 壓力測量與監控 | | 采用數顯真空計可直觀顯示設備的真空度，實驗數據及效果更加準確。 | ||||||
| 供氣系統 | | 采用質量流量計控制，與設備一體化，方便控制，出廠前已進行漏氣測試工作 | ||||||
| 凈重 | 100KG | |||||||
| 設備使用注意事項 | 1. 設備爐膛溫度≥300℃時，禁止打開爐膛，避免受到傷害； 2. 設備使用時，爐管內壓力不得超過0.125MPa（壓力），以防止壓力過大沖開密封法蘭； 3. 高真空下使用時（10的負3次方Pa），設備使用溫度不得超過800℃。 | |||||||
| 服務支持 | 1年有限保修，提供終身支持（保修范圍內不包括易耗部件，例如爐管和O形圈等） | |||||||
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