詳情介紹：
特殊長度
- 可以在紫外可見光（300-800 nm）波長范圍內測量橢偏參數。
- 可以進行納米級的多層薄膜厚度分析
- 通過多通道光譜儀可快速測量橢圓偏振光，可測量400通道或更多通道
- 通過可變反射角測量支持對薄膜的詳細分析
- 通過創建光學常數數據庫并添加配方注冊功能來提高可操作性。
測量項目
- 橢偏參數（tanψ，cosΔ）測量
- 光學常數（n：折射率，k：消光系數）分析
- 膜厚分析
測量目標
- 半導體晶片
柵極氧化物薄膜，氮化物膜
SiO 2，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al 2 O 3，SiN x O y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光學常數（波長色散）抵抗 - 化合物半導體
Al x Ga （1-x）作為多層膜，非晶硅 - FPD
取向膜 - 各種新材料
DLC（類金剛石），超導薄膜，磁頭薄膜 - 光學薄膜
TiO 2，SiO 2，減反射膜 -
在每個波長下的光刻場n，k評估，例如g線（436 nm），h線（405 nm），i線（365 nm）
- 產品信息
- 原則
- 規格
- 測量例
相關信息
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