產品介紹INTRODUCTION
作為一款缺陷形貌分析的精密測量儀器，其主要目的是對樣品進行缺陷檢測。
而儀器所提供的數據不能允許任何錯誤的存在。Park NX20，這款精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數據準確性，在半導體和超平樣品行業中大受贊揚。
大全面的分析功能
ParkNX20具備無二的功能，可快速幫助客戶找到產品失效的原因，并幫助客戶制定出更多具有創意的解決方案。
的精密度為您帶來高分辨率數據，讓您能夠更加專注于工作。與此同時,真正非接觸掃描模式讓探針更耐用， 無需為頻繁更換探針而耗費大量的時間和金錢。
即便是次接觸原子顯微鏡的工程師也易于操作
ParkNX20擁有業界便捷的設計和自動界面，讓您在使用時無需花費大量的時間和精力，也不用為此而時時不停的指導初學者。
借助這一系列特點，您可以更加專注于解決更為重大的問題，并為客戶提供及時且富有洞察力的失效分析報告。
特點FEATURES
為FA和研究實驗室提供精確的形貌測量解決方案
- 缺陷檢查成像和分析。
- 高分辨率電子掃描模式。
- 對樣品和基片進行表面粗糙度測量
- 樣品側壁三維結構測量
低噪聲Z探測器可精確測量AFM表面形貌
- 非接觸模式,降低針尖磨損，減少換探針時間
- 非接觸模式下的快速缺陷成像
- 的三維結構測量的解耦XY掃描系統
- 通過使用熱匹配的組件，盡量減少系統漂移和遲滯現象
低噪聲Z探測器可精確測量AFM表面形貌
- 業界的低噪聲Z檢測器測量樣品表面形貌
- 沒有過沿過沖和壓電蠕變誤差的真正樣品表面形貌
- 即便是高速掃描也可以保持精確的表面高度
- 行業的前向和后向掃描間隙橫向飄移小于0.15%
用真正的非接觸掃描方式節省成本
- 在一般用途和缺陷成像中，具有普通掃描模式10倍或更長的針尖使用壽命
- 減少針尖的磨損
- 最真實的再現樣品微觀三維形貌，減少樣品在掃描過程中的損壞或變形
