ASML的EUV光刻機研發制造出來后，其就不能自由出貨，原因是《瓦爾森協議》的緣故，的設備不能自由出貨。

相比之下，DUV光刻機并非ASML的設備，所以,DUV光刻機一直都能自由出貨，ASML也曾表示，DUV光刻機出貨一般情況下是不需要許可的。

從ASML方面的表態就能夠看出來，只要EUV光刻機不再是的設備，其就可能自由出貨。

ASML傳來新消息，EUV光刻機自由出貨不遠了？

近日，ASML正式對外公布了新財報，其中有兩個數據很關鍵，一個孔徑值為0.33 和0.55的NA EUV光刻機獲得大量訂單；

另外一個NA EUV光刻機已經向英特爾等出貨。

據了解，NA EUV光刻機是EUV光刻機升級版，其采用更高的曝光精度，可以將芯片縮小至2nm。同時，生產效率更高，每小時曝光晶圓超170片以上。

精度和效率提升的同時，NA EUV光刻機的售價也在上漲，單臺價格超過3億美元，盡管如此，英特爾、三星以及臺積電等廠商仍積極下單購買。

也就是說，更*的NA EUV光刻機已經出貨了，那么，EUV光刻機自由出貨不遠了？

根據ASML的表態來看，新一代光刻機上線后，上一代EUV光刻機也將實現自由出貨。

但就目前而言，EUV光刻機要想實現自由出貨，還需要以下幾個條件中的任意一個即可。

首先，ASML拿到許可。

雖然NA EUV光刻機已經出貨，EUV光刻機也不再是的光刻機，但仍是生產制造7nm以下芯片的必要設備。

消息稱，美要在10nm以下芯片制造技術方面進行，讓*的制程芯片技術僅掌握在少數企業手中。

這就意味著，雖然EUV光刻機不再是的設備，但在沒有許可的情況下，ASML想實現自由出貨還是比較難的。

其次，類似EUV光刻機的設備出現。

據悉，國內廠商突破的技術，美很快會允許其它廠商自由出貨，就像華為自研了汽車芯片等產品后，美就批準了一項價值超1億美元的汽車芯片等出貨許可。

也就是說，ASML即便是沒有拿到EUV光刻機的出貨許可，只要國內廠商推出了類似的產品或者世界上有其它國家推出了類似的產品，EUV光刻機也將實現自由出貨。

就目前來看，這一天已經不遠了，因為俄正在研發*的X射線光刻機，佳能、尼康等老牌光刻機廠商正在聯合搞突破。

還有就是，國內廠商在*的光源技術、透膜技術等方面也取得了很大突破，為國產*光刻機研發制造打下了基礎。

最后，新技術的出現。

EUV光刻機主要是用于生產制造7nm芯片以下，一旦有新技術出現，EUV光刻機必然會自由出貨。

據悉，NIL工藝已經推出，2025年即可用于生產制造5nm芯片；光電芯片也被看作是硅芯片的替代者，荷蘭已經計劃投資11億歐元研發該技術。

可以說，相應替代技術的出現，必然也加速實現EUV光刻機自由出貨。

ASML本質上是想讓EUV光刻機盡快自由出貨的

雖然EUV光刻機還無法自由出貨，，但ASML本質上是想讓EUV光刻機盡快實現自由出貨。

因為對ASML而言，實現EUV光刻機是百利而無一害的，不僅能夠快速增加營收，實現300億歐元的目標，還能拿下更多的市場，從而保證在這一領域內實現。

相反，ASML不能自由出貨，只會加速其它廠商自研進度，或者開辟新的道路，所以ASML一直都在加大產能，并表達出反對限制出貨的不滿情緒。