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| 產地 | 國產 | 加工定制 | 否 |
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質量流量控制器 V 系列 MFC
應用場景：MFC 既可應用于半導體前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設備中， 也在光伏能源、真空鍍膜等領域有可觀的市場。 MFC 可通過對氣體流量的精準控制，有效地提供更高的良率。
該系列產品可廣泛應用于半導體制造中的 etch（刻蝕）、CVD（化學氣相沉積）、PVD（物理氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、MOCVD（金屬有機化學氣相沉積）等工藝設備中，也適用于如 MPCVD（微波等離子體化學氣相沉積）、解熱解凍干燥、石英提純、醫療廢棄物處理等領域。
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