當(dāng)前位置：孚光精儀（中國）有限公司>>材料物理儀器>>高壓PVD系統(tǒng)

高壓PVD系統(tǒng)

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)FPSEM-STE-MS150

品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品

聯(lián)系方式：陳小姐查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2021-08-16 18:40:42瀏覽次數(shù)：145次

聯(lián)系我時(shí)，請告知來自儀表網(wǎng)

產(chǎn)品分類 品牌分類

  材料物理儀器

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

孚光精儀（中國）有限公司

經(jīng)營模式：經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品：1482條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：陳小姐（銷售）

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡介

這款高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設(shè)計(jì),PVD可以在溫度900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性材料,容納晶圓直徑為150mm,訂制后可容納200mm直徑晶圓

詳細(xì)介紹

這款高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設(shè)計(jì),PVD可以在溫度900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性材料,容納晶圓直徑為150mm,訂制后可容納200mm直徑晶圓。
高壓PVD系統(tǒng)特點(diǎn)
•最多3個(gè)磁控管源，靶材為∅76,2 mm
•過程氣體：Ar、H2、O2、N2
•磁控管源位于柔性支架上，可聚焦到單點(diǎn)（共焦幾何結(jié)構(gòu)），以提供共沉積模式
•每個(gè)磁控管源的主快門或單獨(dú)快門（可選）
•可能安裝電子束源和/或熱阻蒸發(fā)器以及用于基板清潔的離子源（可選）
•多功能真空沉積系統(tǒng)，可配備各種PVD源和高溫晶圓加熱
•用2-3個(gè)磁控管沉積多組分薄膜
•從2-3個(gè)磁控管源同時(shí)濺射相同的目標(biāo)材料，以在∅100-150 mm基板上提供的均勻性
•可能升級(jí)多達(dá)7個(gè)磁控管源，以便使用旋轉(zhuǎn)式晶圓安裝逐個(gè)沉積材料

高壓PVD系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
工藝過程反應(yīng)器中的極限壓力: 不小于<1×10^-7(<1×10^-8 in UHV version)
達(dá)到預(yù)處理真空的時(shí)間（<5×10^-6Torr）在TMP 550 l/sand,干渦旋泵35m3/h時(shí): 不超過2min
沉積過程中晶圓旋轉(zhuǎn)的速度范圍: 0~20rpm
晶圓加熱溫度： 900°С
泵送系統(tǒng)性能：–渦輪分子泵，不小于500l/s
–干式渦旋泵，不小于35m3/h

關(guān)鍵詞：加熱器蒸發(fā)器