詳細摘要： 勞厄單晶定向儀是為晶體定向和表征單晶設計的實時Laue相機
產品型號：FPMUL-mwl120所在地：更新時間：2024-04-27 在線留言孚光精儀（中國）有限公司
孚光精儀（中國）有限公司
詳細摘要： 脈沖激光沉淀系統工作站PLD是氧化還原系統，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要優點是將化學計量的材料從靶轉移到襯底
產品型號：FPSUR-PLD-Workstation所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 激光分子束外延系統LaserMBE是新型激光薄膜制備技術設備,它集成了普通分子束外延（MBE）的超高真空、原位監測的優點和脈沖激光沉積（PLD）的易于控制化學組...
產品型號：FPSUR-LASER-MBE所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 超高真空激光分子束外延集群系統lasercluster將不同的薄膜和分析技術結合成一個強大的系統
產品型號：FPSUR-Laser-Cluster所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 光束線同步PLD系統,新型脈沖激光沉積系統適合原位同步衍射/散射研究,精確了解影響薄膜界面形成和生長的機制
產品型號：FPSUR-Beamline所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 磁控濺射系統MagSput是下一代磁控濺射沉積系統，實用性腔,可擴展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學研究
產品型號：FPTOR-MagSput所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 感應耦合反應離子刻蝕系統ICPRIE由射頻電源感應產生等離子體,以產生各向異性蝕刻
產品型號：FPTOR-ICPRIE所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 科研型原子層沉積系統ALD系芬蘭picosun公司R-200standard原子層沉積技術,具有的熱壁設計和單獨的入口，可實現無顆粒工藝，適用于晶圓，3D對象和...
產品型號：FPPIC-R-200-standard所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 等離子體增強原子層沉積系統采用更大的腔室和等離子ALD模塊,獲得更好的原子層沉積效果
產品型號：FPCTE-Play所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： ALD系統AT410提供了用于3D樣品制備的共形導電薄膜解決方案，同時還提供了目前使用濺射/蒸發生長的傳統2D涂層
產品型號：FPANR-AT410所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： COVAP物理氣相沉積系統為許多工藝應用提供緊湊、經濟、但仍然穩健的PVD解決方案
產品型號：FPANG-COVAP所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 多功能物理氣相沉積平臺可搭載濺射,熱蒸發,電子束蒸發,等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統
產品型號：FPANG-AMOD所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 離子束沉積系統IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實現離子束沉積濺射鍍膜
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詳細摘要： 真空電阻式熱蒸發鍍膜機CRTE直徑觀察口匹配雙級旋轉葉片泵的渦輪分子真空泵系統帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器帶數字顯示和讀數的全量程真空計最多四個帶獨立百葉窗...
產品型號：FPTOR-CRTE所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 電子束-電阻熱蒸發復合鍍膜系統集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發鍍膜沉積功能
產品型號：FPTOR-EB4P所在地：更新時間：2023-03-30 在線留言
詳細摘要： 反應離子刻蝕系統RIE600W是一款進口等離子體反應離子蝕刻機,用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜
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詳細摘要： 這款多功能緊湊型MBE系統具有三個腔室,適合用于А3В5,寬帶А2В6和А3N化合物（訂制版本）的生長,MBE系統設計吸收了這些材料系統中分子束外延的成果,非常...
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