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聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號FPORS-FIB

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更新時間：2021-08-16 15:49:09瀏覽次數(shù)：104次

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孚光精儀（中國）有限公司

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產(chǎn)品簡介

這套聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)是一種超高真空UHV條件多功能FIB系統(tǒng),既可以配置為掃描電子顯微鏡SEM,也可以配置為結合SEM和高性能聚焦離子束FIB的雙束平臺

詳細介紹

這套聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)是一種超高真空UHV條件多功能FIB系統(tǒng),既可以配置為掃描電子顯微鏡SEM,也可以配置為結合SEM和高性能聚焦離子束FIB的雙束平臺。
這套聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)采用模塊化結構，允許大量選擇符合終端用戶特定需求和目標的SEM和FIB柱。為要求無污染環(huán)境的樣品提供、完整和定制的FIB納米加工、表面分析解決方案。
聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)特點
全高真空設計-無污染：是臺超高壓設計的FIB-SEM儀器
*可定制的系統(tǒng)-超高壓納米空間可以定制，以便*特定需求。
在選擇時給予了*的靈活性-FIB柱、SEM柱、注氣系統(tǒng)和其他附加配件，視要求而定
高質量設計-*的條件和*的雙光束幾何允許
原位掃描電鏡與優(yōu)質二次鋼的相關性
單個儀器中的離子質譜圖像
高分辨率成像-納米空間可以集成靜電掃描電鏡或，既能產(chǎn)生高質量圖像的磁性掃描電鏡
準確的樣品控制-超高真空兼容6軸工作臺允許裝載樣品，長度和寬度小于或等于100 mm
全自動儀器-納米空間控制和成像軟件,符合人體工程學，易于使用。真空系統(tǒng)*關閉自動化，以確保安全，快速和方便的真空操作
特高壓連接-特高壓中間室的設計是為了確保與特高壓第三方*連接的儀表,系統(tǒng)、工藝集群或同步加速器束線
還可以配備超高壓兼容的氣體注入系統(tǒng)（GIS），用于局部金屬沉積和選擇性蝕刻。也可以通過超高壓中間室與第三方系統(tǒng)（如MBE集群、表面分析儀器）進行現(xiàn)場連接。這種連接性拓寬了納米空間的應用范圍。

Vacuum Performances
Main Chamber Vacuum	5.10^-10 mbar
UHV Configuration	Maximum instrument bakeout temperature is 120°C
Sample Main Chamber Introduction	30 min