當前位置:上海光密儀器有限公司>>檢測顯微鏡>> GDM-900大平臺檢測顯微鏡
用途:
GDM-900大平臺檢測顯微鏡系列是我公司推出的一種型中級檢測儀器,它具有高清晰成像效果和超長的工作距離.GDM-900大平臺檢測顯微鏡在觀察物體時能產生正立的三維空間影像。立體感強,成像清晰和寬闊,又具有長工作距離,并是適用范圍非常廣泛的常規顯微鏡。 它操作方便、直觀、檢定效率高,適用于電子工業生產線的檢驗、印刷線路板的檢定、印刷電路組件中出現的焊接缺陷(印刷錯位、塌邊等)的檢定、單板PC的檢定、真空熒光顯示屏VFD的檢定等等,它將實物的圖像放大后顯示在計算機的屏幕上,可以將圖片保存,放大,打印。配測量軟件可以測量各種數據。
成像系統簡介:
GDM-900大平臺檢測顯微鏡系統是將傳統的光學顯微鏡與計算機通過光電轉換有機的結合在一起,不僅可以在目鏡上作顯微觀察,還能在計算機顯示屏幕上觀察實時動態圖像,并能將所需要的圖片進行編輯、保存和打印。
技術參數:
1.目鏡
類型 | 放大倍數(X) | 焦距(mm) | 視場( mm ) |
大視野目鏡 | 10X | 25 | Φ18 |
物鏡類型 | 放大倍數(X) | 數值孔徑(NA | 工作距離(mm) |
平場消色差物鏡(無蓋玻片) | 5X | 0.12 | 18.3 |
10X | 0.25 | 8.9 | |
20X | 0.40 | 8.7 | |
40X | 0.60 | 3.7 | |
80X | 0.80 | 0.96 |
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