K575X使用“渦輪”泵，前級為旋片式機械泵，整個抽真空過程為自動控制。
真空度可調整，以適應鉻或其它易氧化金屬，以及金靶等不同材料要求，定時器可設置成不同的濺射時間。
本系統裝配了磁控管靶，靶面直徑為54 mm，可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細顆粒的涂層（無需水冷卻）。
濺射時參數可預設，包括氣體放氣電磁閥。
K575d（雙頭）其它與K575X相同，只是具有兩個濺射頭。在進行特殊涂層的應用時，不需要打開真空即可進行兩層沉積濺鍍。
注：K575d技術規格與K575X相同，但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷，對于比較厚的沉積，通常用K575d（雙頭）單元，它需要用水冷卻。
特點
● 全自動控制
● Peltier冷卻濺射頭
● 精細鍍層（0.5nm Cr粒子）
● 可傾斜的特殊旋轉臺作為標準配置
● 薄膜沉積（典型為5nm）
● 直徑為165mm腔室
● 可選雙濺射頭
● 可接膜厚測控儀
● 全自動控制
● Peltier冷卻濺射頭
● 精細鍍層（0.5nm Cr粒子）
● 可傾斜的特殊旋轉臺作為標準配置
● 薄膜沉積（典型為5nm）
● 直徑為165mm腔室
● 可選雙濺射頭
● 可接膜厚測控儀
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技術規格
儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩：聚碳酸酯
基座： 110 mm直徑x 115mm高
重量：42公斤
靶：54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標準靶材)
樣品臺：60mm直徑，具有傾斜功能的旋轉臺
真空范圍：ATM-1x10-5 mbar
操作真空：1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar
濺射電流：0-150mA
沉積速率：0-20nm/分
濺射定時： 0-4 分鐘
渦輪分子泵：60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar)
Services - Argon - Nominal 10 psi；
Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
電源：230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為6安培)
115 伏 60Hz(包括泵zui大電流為12安培)
