K550X具有旋轉樣品臺，它也可傾斜，非常適合各種樣品使用。預選擇參數及全自動控制使得精確鍍層及重復厚度沉積更為方便。
磁電管靶使用低電壓，可提高效率，K550X能得到非常精細的顆粒，由于是冷濺射，所以無需冷卻靶面或樣品臺。
腔室直徑為165 mm(6英寸)，非常方便裝載及移走樣品。
儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶選擇），提供的性能價格比。可選靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。
功能集中在儀器面板上及即插即用電子學設計，zui大的“up-time”，這些用戶友好設計滿足了不同學科的用戶需求。
濺射參數可被預先設置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設置，它就不需要再調節。濺射頭互鎖，系統可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動操作，可控制獨立的真空泵。
特點 ● 全自動控制 ● 低電壓濺射 ● 高分辨率精細涂層(金顆粒可達2 nm) ● 具有傾斜裝置的特殊旋轉臺 ● 均勻厚度沉積 (掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃) ● 165 mm(6英寸)腔室 ● 可接膜厚監視器，實時監測鍍覆層厚度 |
優點 ● 易操作 ● 無需冷卻樣品臺 ● 精確的再次涂層 ● 適合各種樣品 ● 膜厚度重復性好 ● 容易裝載或卸載樣品 ● 可預設沉積厚度 |
K500X是K550X的手動版，區別在于它不帶旋轉樣品臺，手動操作。所有的其它特點和技術規格與K550X相同。
技術規格
儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩:聚碳酸酯
靶：60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標準靶面)
樣品臺：直徑為60 mm，靶面距離40mm,具有傾斜
裝置的旋轉臺
真空范圍:ATM-1x10-2 mbar
濺射電流:0-50mA
沉積速率:0-25nm/分
濺射定時: 0-4 分鐘
預設置針閥:控制氬
電源:230 伏 50Hz
(10 amp max. including Pump)
