小型高溫蒸鍍儀：KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
小型高溫蒸鍍儀：技術資料
控制方式
| 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
| 數字式功率調整器
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鍍膜功能
| 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
| ≤1200W
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輸出電壓電流
| 電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
| 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
| 電控
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真空腔室
| 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
| 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
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樣品臺轉速
| 8轉/分鐘
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樣品蒸發源調節距離
| 70-140mm
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蒸發溫度調節
| ≤1800℃
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支持蒸發坩堝類型
| 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
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預留真空接口
| KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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可選配擴展
| 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）
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