鄭科探 小型高溫真空蒸鍍儀：
是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動(dòng)樣品擋板，靶臺(tái)旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲(chǔ)存等功能。
真空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)
低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。
編輯
以下是不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
鄭科探 小型高溫真空蒸鍍儀 技術(shù)參數(shù)
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計(jì)（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
