產品特點
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1.針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場合中使用,等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發生器，兼顧物理反應和化學反應
2. 采用500W功率電源，自動阻抗匹配，高功率射頻發生器可應對各種實驗要求，保障高能量密度和高處理效率
3. 高精度真空度控制，適應各種處理需求
4. 316不銹鋼腔體（或者6061鋁合金），全不銹鋼管路和連接件，適用各種氣體（包含腐蝕性氣體）
5. 4.3寸工業級觸摸屏，軟件操作方便，多種參數設置和工藝組合處理模式
6. 可增加多種配件，涂覆鍍膜，電極溫度控制，等離子體強度控制，等離子體化學反應等功能（如有特殊應用，請咨詢銷售人員）
根據用戶需求，提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設備
技術參數
1.配置不同模塊，拓展不同應用
加熱電極模塊-溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性
沉積鍍膜模塊，改變表面特性：
沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性
沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性
沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果
感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置
2.氣體混合裝置
可以根據可以要求進行混氣設計
3.氣體純化和反應
氣體純化和使用等離子體與相關材料進行化學反應
應用領域處理實例：玻璃片不同處理條件下接觸角的變化（在實際操作中，選擇合適的工藝參數尤為重要） 檢測設備：接觸角測量儀 測試液體 水液滴體積 1ul 等離子設備：真空等離子表面處理機PlutoM |
 | 結論： 在氧等離子體環境下，不同功率處理后接觸角都有明顯改善， 由處理前的接近50°下降到5°以內，說明潤濕性提高很多。 功率為140W時，接觸角的改善是的； 但隨著功率增大到150W，效果反而不如140W。 |
 | 結論： 在氬氣等離子體環境下，不同功率處理后接觸角都有明顯改善， 由處理前的接近50°下降到5°以內，說明潤濕性提高很多。 功率為140W時，接觸角的改善是的； 但隨著功率增大到150W，效果反而不如140W。 |
 | 結論： 在相同的氧氣氣氛和功率下，不同時間處理后的接觸角都有明顯改善， 但隨著處理時間為2min以上，處理效果并沒有提升，說明并非處理時間 越長效果越好，需要根據樣品選擇的處理時間。 |
