風冷臺燈取暖器MILA-700AR理工ADVANCE

風冷臺燈取暖器MILA-700AR理工ADVANCE

風冷臺燈取暖器MILA-700AR，簡易紅外燈加熱器SSA系列，可變氣氛燈加熱裝置QHC系列，VHC系列，點聚焦紅外金像爐MIRO系列，紅外燈消光管CAS-MR59AQ，超高溫燈管退火設備HT-RTA59HD，生產用熱處理爐(線設備)

產品介紹

風冷臺燈取暖器MILA-700AR

不使用冷卻水的臺燈加熱設備。
冷卻使用空氣冷卻風扇，因此如果您有壁裝電源插座（AC100V），您可以立即加熱。

用法

Si晶圓、化合物晶圓的高速加熱

光CVD基板加熱等電子材料的高速加熱

玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理。

熱循環試驗

金屬材料退火

涂膜耐熱性評價

有機材料和樹脂的加熱和干燥

特征

無需冷卻水，采用帶風冷風扇的風冷系統。

可與墻上插座一起使用 (AC100V 15A)

臺式加熱爐、加熱室、溫控器一體化

紅外金像爐清潔快熱快冷

在計算機上輕松輸入溫度配方

加熱過程中的溫度數據可在電腦屏幕上顯示

標配數字流量計，可選擇N2氣、Ar氣、干燥空氣。

簡易紅外燈加熱器SSA系列

紅外金像爐和石英腔室的簡單設備。
一種低成本加熱系統，由紅外金像爐和包含樣品架的石英室組成。

用法

化合物半導體的合金化

Si、化合物半導體RTA

陶瓷基板層壓材料燒成爐

玻璃和陶瓷基板退火爐

特征

可選擇氣流式或真空式石英腔體（標準為氣流式）

可選地，可以組合氣流類型和真空類型

溫度程序設置和外部信號輸入可以從您的個人計算機輕松執行。

此外，還可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數據。

可變氣氛燈加熱裝置 QHC系列/VHC系列

可以進行太陽能電池/化合物半導體的工藝開發以及各種應用和設置。
QHC/VHC系列是結合了紅外線金像爐和溫度控制器的高速加熱/冷卻系統，并緊湊地配備了石英熱處理室。
可根據客戶需求定制。

用法

太陽能電池基板的熱處理

氫氣氛下熱處理

用于各種材料基礎研究的大氣退火和熱處理模擬器

氣淬熱處理

熱循環/熱沖擊測試

半導體材料的燒成、工藝退火條件的檢查

特征

從高速加熱到低速加熱的多種條件設置

多步循環加熱

氣冷機構高速氣淬

溫度程序設置和外部信號輸入可以從您的個人計算機輕松執行。

此外，還可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數據。

點聚焦紅外金像爐MIRO系列

聚光聚光超高溫熱處理。
它是一種緊湊型點聚光紅外金像爐，具有球形反射面，通過與單室或雙室組合實現高反射效率。通過聚焦可以將溫度升高到 1800°C。

用法

超高溫真空熱處理

晶體生長測試（區熔）

小樣品超高溫加熱試驗

局部加熱熱沖擊試驗

熱循環試驗

用于熱分析

用于產生的氣體熱解器

微重力下的實驗反應堆

特征

超小型、低成本的超高溫加熱爐

通過與單室或雙室組合，可以在真空或惰性氣體等氣氛下進行加熱。

可以在加熱過程中觀察樣品

溫度程序設置和外部信號輸入可以從您的個人計算機輕松執行。

加熱過程中的溫度數據可以顯示在個人電腦上。

紅外燈消光管CAS-MR59AQ

材料加熱后，可將樣品滴下并在水淬惰性氣體氣氛中加熱至 1800 °C

用法

鋼板材料新材料研發

金屬凝固過程中的成分評估

陶瓷的熱沖擊試驗

特征

可在 10 秒內升溫至 1800°C

采用紅外線燈加熱，產生的氣體和粉塵少，清潔加熱

材料加熱后允許水淬

超高溫燈管退火設備HT-RTA59HD

在10秒內將一小塊樣品加熱到1800°C。一種
桌面式超高溫燈管退火裝置，可以將SiC等昂貴樣品和小塊其他高熔點材料的溫度提高到超高溫度1800°C 的溫度范圍，通過點加熱實現高反射效率。

用法

SiC（功率器件）氧化膜形成-活化

高熔點材料的熱處理

燒結、燒成爐

局部加熱沖擊試驗爐

長晶試驗爐（區熔）

特征

15 平方毫米的樣品可以在 10 秒內加熱到 1800°C。

通過點加熱實現高反射效率

桌面小巧機身

采用紅外線燈加熱，產生的氣體和粉塵少，清潔加熱

溫度程序設置和外部信號輸入可以從您的個人計算機輕松執行。

此外，還可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數據。

生產用熱處理爐（線設備）

根據熱處理的目的形成加熱系統。
在該設備中，加熱爐和加熱系統根據材料的形狀和過程中熱處理的目的而組成。
我們通過地利用高速加熱、高速冷卻和清潔加熱，提供適用于無公害、節能和高功能的加熱爐。

用法

建材用鋁擠壓模具高速預熱

金屬絲的連續熱處理

金屬帶材軋制前后的連續熱處理

異種金屬材料的擴散接合加熱

涂膜干燥/烘烤加熱

玻璃基板材料的高真空加熱

氯乙烯管軟化成型

漆包線干燥退火

碳納米管生產爐