SUSS MA12 掩膜對準器用于工業(yè)研究和低成本生產(chǎn)的手動光刻機。
MA12是專為對準和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設(shè)計的,適合于工業(yè)研究和生產(chǎn)。憑借靈活處理和過程控制解決方案,本設(shè)備主要用于*封裝,包括3D圓晶級芯片尺寸封裝, 以及開發(fā)和生產(chǎn)敏感元件,如MEMS。
通過對準技術(shù)選項和可適應(yīng)各種工藝環(huán)境的光學系統(tǒng),MA12提供開發(fā)和使用光刻工藝所需要的靈活性。輔助操作系統(tǒng)和智能圖形用戶界面結(jié)合手動晶圓處理優(yōu)點打造出強大的工藝控制和可靠性。
MA12所采用的光刻技術(shù)能夠?qū)㈤_發(fā)出的工藝輕松傳輸?shù)?SUSS MicroTec 公司第二代 MA300 生產(chǎn)型光刻機上。