ASML二手翻新現貨ArF光刻機AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對于300mm晶圓處理的雙級光刻平臺。 AT:1100具有12"掃描儀。AT:1100是一個193nm波長系統，具有業界的數值孔徑ArF透鏡(NA=0.75)。建立在ASML于2000年7月推出的成功的300mm TWINSCAN雙級平臺之上。AT:1100以20mJ/cm2的劑量實現每小時93個晶圓的吞吐量。通過分離對齊和曝光操作，可以在不影響吞吐量的情況下對整個300mm晶圓進行更廣泛和準確的對齊和晶圓表面高度映射.這種計量精度的提高對于在全吞吐量下提供100nm關鍵尺寸控制和晶圓上小于20nm的覆蓋層至關重要。AT:1100引入了新的4kHz ArF激光技術，這有助于其的生產力優勢。 AT:1100引入了新的4kHzArF激光技術，這有助于其的生產力優勢。AT:1100專為與ASML的TWINSCAN產品系列（包括248nm深紫外系統AT:750和i-line系統AT:400）無縫混搭操作而設計，從而確保成本即使采用*的工藝技術，每個級別。TWINSCAN平臺允許使用軌道處理設備和300毫米自動材料處理系統進行左手或右手配置，以實現的晶圓廠布局。
