ASML KRF光刻機PAS5500/800提供0.80 數值孔徑 (NA)。該系統的分辨率為 120 納米，將用于批量生產 256 MB DRAM 和其他*的存儲設備。
“PAS 5500/800 將使這些的制造商能夠將其對成熟 KrF 技術的投資擴展到新一代內存產品，”ASML 銷售執行副總裁 Dave Chavoustie 說。“通過展示我們擴展 PAS 5500 平臺和提供新工具的能力，我們的系統繼續提供非常高的生產力和低擁有成本。”
PAS 5500/800 于 2001 年 1 月發布，其吞吐量規格為每小時 115 200 毫米晶圓。該系統專為當今 IC 的大批量處理以及下一代邏輯、ASIC和*存儲設備的研發和試生產而設計。PAS 5500/800 將 Carl Zeiss StarLith800 0.8 NA、4X 縮小鏡頭的成像能力與 AERIAL II 照明技術相結合，可在關鍵尺寸和電路設計特征范圍內優化工藝范圍。該系統配備了 ASML的 ATHENA 晶圓對準系統和新開發的掩模版藍色對準，允許光化波長掩模版對準，使單機重疊精度低于20納米。新的液位傳感器提高了聚焦精度，以增強過程控制和產量，特別是對于邊緣模具。客戶可以從三大的 20 瓦 KrF 激光器供應商中進行選擇。ASML 對激光源的實施包括可變激光頻率控制，結合通過照明和投影光學器件的高光傳輸，確保更高的生產率和更低的運營成本。
