晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)將這兩個外延后計量篩選功能組合到一個高通量系統(tǒng)中,可限度地減少寶貴的晶圓廠空間使用和盒處理時間。該產(chǎn)品可為用戶提供顯著的經(jīng)濟節(jié)約(例如:準確預(yù)測MOCVD反應(yīng)器產(chǎn)量和PM計劃)。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測系統(tǒng)特點
高密度光譜光致發(fā)光PL映射
晶圓缺陷分析和分類
高分辨率外延層厚度和歸一化反射率成像
晶圓形狀輪廓和三維翹曲重建
高密度光譜PL映射:裸晶片和圖案化晶片上的峰值λ、峰值強度、半高寬和其他光子學(xué)相關(guān)參數(shù)