平面度和應力測試儀可非接觸式測量各種反射硅片和玻璃表面平面度、波紋度和薄膜應力,廣泛用于晶圓硅片、反射鏡、金屬表面或拋光聚合物。
平面度和應力測試儀的光學測量原理確保了高精度。它是基于對垂直入射激光束沿恒定步長線的反射角的測量。表面形狀可以根據測量點之間反射角的變化來精確計算。
平面度和應力測試儀可測量半導體行業鍍膜的薄膜應力,薄膜應力可以通過涂層前后測量的半徑來計算。
平面度和應力測試儀特點
標準測量面積為200mm，*大的測量面積可訂做而不會降低精度
測量精度高,分辨率為0.1弧秒，表面形狀再現性達到100nm
測量工作距離大，測量范圍大，適用于測量具有強曲率的表面，如goebel反射鏡、硅片或其他表面。所使用的光學測量原理與工作距離無關，并確保了較高的工作距離，因此沒有損壞樣品的危險。
可選2D或3D測量
軟件模塊支持測量涂層或薄膜應力,用于通過福克斯理論計算薄膜應力,根據涂覆過程前后的平均曲率半徑計算。
平面度和應力測試儀技術規格
表面曲率（P-V）再現精度：≤100 nm**
光學測量系統的分辨率：0.1弧秒
光學測量系統的精度：1弧秒
測量速度：10mm~30mm/秒
測量場:標準：ø200毫米*（可以在沒有問題的情況下進行大范圍操作）
試樣厚度:不受限制
***小曲率半徑和根據掃描長度的箭頭高度:
200mm：R=18 m 290µm，300mm：R=25 m 435µm，500mm：R=43 m 725µm
自由工作距離: 不受限制
測量波長: 標準：670nm*
自動測量
平面度和應力測試儀的光學測量原理確保了高精度。它是基于對垂直入射激光束沿恒定步長線的反射角的測量。表面形狀可以根據測量點之間反射角的變化來精確計算。
平面度和應力測試儀可測量半導體行業鍍膜的薄膜應力,薄膜應力可以通過涂層前后測量的半徑來計算。
平面度和應力測試儀特點
標準測量面積為200mm，*大的測量面積可訂做而不會降低精度
測量精度高,分辨率為0.1弧秒，表面形狀再現性達到100nm
測量工作距離大，測量范圍大，適用于測量具有強曲率的表面，如goebel反射鏡、硅片或其他表面。所使用的光學測量原理與工作距離無關，并確保了較高的工作距離，因此沒有損壞樣品的危險。
可選2D或3D測量
軟件模塊支持測量涂層或薄膜應力,用于通過福克斯理論計算薄膜應力,根據涂覆過程前后的平均曲率半徑計算。
平面度和應力測試儀技術規格
表面曲率（P-V）再現精度：≤100 nm**
光學測量系統的分辨率：0.1弧秒
光學測量系統的精度：1弧秒
測量速度：10mm~30mm/秒
測量場:標準：ø200毫米*（可以在沒有問題的情況下進行大范圍操作）
試樣厚度:不受限制
***小曲率半徑和根據掃描長度的箭頭高度:
200mm：R=18 m 290µm，300mm：R=25 m 435µm，500mm：R=43 m 725µm
自由工作距離: 不受限制
測量波長: 標準：670nm*
自動測量
