GDA 750 HR/GDA 550 HR是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學元素含量分析。多達79個分析通道，采用PMT檢測器，GDA 750 HR/GDA 550 HR型輝光放電光譜儀是高分辨率、高靈活性和高分析精度的儀器，同時可安裝的高分辨率CCD光學系統(選裝件)，允許同時分析所有元素，具備全譜功能，也可在現有的方法中添加任一元素的任一譜線。這種靈活性在實際分析中，尤其對于元素含量和深度測定中至關重要。

   - 所有元素，包括輕元素(H，O，N，CI，和C)均可測定。

   - 在含量-深度測量中，分析深度可達200um以上，層分辨率可達1納米。

   - GDA 750 HR/GDA 550 HR也可進行基體總量分析，尤其對于復雜基體，具備優異的線性校準曲線。檢出限可達亞ppm級。

   - GDA 750 HR/GDA 550 HR裝備有一代的輝光激發光源，濺射直徑從1mm至8mm。

   - 采用通用樣品夾具，也可進行小樣品和異形樣品的分析，無需更換特殊電極。

   - GDA 750 HR也可選裝配置脈沖式射頻光源(選裝件)，用于分析非導體材料。采用脈沖式射頻光源后，可分析非導體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機涂層、有機薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉移室(選裝件)，用于分析極薄的薄膜和在空氣中易氧化的薄膜。

激發光源：

- 同一激發光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證優秀的穩定性和重復性
    高效的樣品直接冷卻。可直接分析熱敏感樣品、極薄的金屬薄膜和有機薄膜。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
- 優化的氬氣流量控制，可以同時實現低檢出限和高深度分辨率
- 專門設計的自動清掃裝置，保證了高精度、高重復性測量
- 樣品分析厚度45mm，最小厚度50um
- 程序自動控制的直流光源(DC)，電壓可達1500V，電流250mA
- 程序自動控制的射頻光源(RF)，功率150W，電壓、電流自動監控，實時等離子自動調節、脈沖工作模式(選裝件、僅GDA 750有效)
- 選裝件：自動進樣器，程序控制100位

光學系統：
- 光譜分辨率優于20pm(FWHM)
- 光譜范圍：190nm--800nm
- Paschen-Runge光學系統，焦距750mm
- 全息原刻光柵，2400線/mm
- 出射狹縫，預設所有元素通道
- 可同時安裝63個分析通道，選用選裝件(400mm)，可再附加16個分析通道
- 方便易操作的透鏡清潔，可立即進行分析
- 優化的檢測器高壓系統，定量測試時，線性動態范圍106
- 檢測器增益自動調節
- 選裝件：高性能CCD光學系統，光譜范圍200nm--800nm。光譜分辨率可達0.02nm(FWHM)。與主光學系統同時工作
- CCD光學系統可無限制添加分析通道，真正實現全譜同時測量
- 選裝件：單色儀，光譜范圍可擴展至1500nm。可同時安裝3個光柵，獨立工作。

真空系統：
- 全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對于N元素分析
- 光室真空采用二級旋轉葉片真空泵，噪音<50dB
- 光源使用無油真空泵，免除C，H，O，S，P等元素污染
- 內置安全閥設計，以避免突然斷電對旋轉葉片泵的損害
- 選裝件：渦輪分子泵

WinGDOES軟件：
- Windows平臺運行
- 使用界面簡單、易懂，分級管理和操作
- 功能強大
- 方法建立簡便，在線指導
- 校準樣品管理，樣品添加
- 多種校準模式
- QDP定量分析校準
- 用戶定制測量報告模式
- 數據處理和再處理功能
- 多種格式數據輸出
- 分析過程中界面語言切換

應用：
- 熱處理
  精確測量所關心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測表面污染物、夾雜物和物相比例
- 涂鍍層
  可獲得涂鍍層完整的化學組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。非導體涂鍍層，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
- 硬質合金層
  快速分析硬質合金層和熱處理工件的滲層化學組分
- 陶瓷
  采用RF光源可精確可靠的測量
- 電鍍
  測量電鍍層的復雜結構和過渡界面信息，化學組分含量、層厚、質量分布，也可進行缺陷鑒別和分析
- 化學組分
  精確測量化學元素含量
  高精度、高重復性檢測
  快速分析：<60s
  可分析從H至U的所有元素，檢測范圍從ppm至99%
- 太陽能電池薄膜
  檢測太陽能光伏電池薄膜中化學元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2

輝光放電光譜儀主要應用領域：
- 汽車制造及零部件
- 金屬加工、制造
- 冶金
- 航空、航天
- 電子工業
- 玻璃、陶瓷
- 表面處理：化學氣相沉積、物理氣相沉積等
- 電鍍
- 光伏電池、鋰電
- 科學研究