GDA 650 HR/GDA 150 HR的成功推出，意味著以CCD檢測器為代表技術的輝光放電光譜儀進入了新的高度。裝備有一代的CCD固態(tài)檢測器，與高分辨率光學系統(tǒng)匹配。新一代的CCD檢測器不但具備傳統(tǒng)光電倍增管的低噪聲、寬動態(tài)范圍的特點，而且還具備優(yōu)異的分辨力和全譜數(shù)據(jù)采集能力，特別適合同時需要高精度檢測和分析靈活性的用戶。

  高分辨率CCD光學系統(tǒng)使得GDA 650 HR/GDA 150 HR具備無限的擴展能力，允許使用者在任何分析方法下任意擴展和增加任何分析通道。
  這種靈活性允許進行快速的基體總量和涂鍍層分析，所有元素，包括O，N，C等非金屬元素均可進行定量分析。

  - 在含量-深度測量中，分析深度可達200um以上，層分辨率可達納米級。

  - GDA 650 HR/GDA 150 HR也可進行基體總量分析，尤其對于復雜基體，具備優(yōu)異的線性校準曲線。檢出限可達ppm級。
  - GDA 650 HR/GDA 150 HR裝備有一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具(USU)，也可進行小樣品和異形樣品的分析，無需更換特殊電極。
  - GDA 650 HR也可選裝配置脈沖式射頻光源(選裝件)，用于分析非導體材料。
  - 采用脈沖式射頻光源后，可分析非導體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機涂層、有機薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉移室(選裝件)，用于分析極薄的薄膜和在空氣中易氧化的薄膜。

激發(fā)光源：
- 同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證優(yōu)秀的穩(wěn)定性和重復性
- 高效的樣品直接冷卻。可直接分析熱敏感樣品、極薄的金屬薄膜和有機薄膜。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
- 優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時實現(xiàn)低檢出限和高深度分辨率
- 專門設計的自動清掃裝置，保證了高精度、高重復性測量樣品分析厚度45mm，最小厚度50um
- 程序自動控制的直流光源(DC)，電壓可達1500V，電流250mA
- 程序自動控制的射頻光源(RF)，功率150W，電壓、電流自動監(jiān)控，實時等離子自動調節(jié)、脈沖工作模式(選裝件、僅GDA 650有效)
- 選裝件：自動進樣器，程序控制100位

光學系統(tǒng)：
- 高性能CCD光學系統(tǒng)，光譜范圍120--800nm
- 光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)
- Paschen-Runge光學系統(tǒng)，焦距400mm
- 全息原刻光柵，2400線/mm
- 光室恒溫控制，儀器穩(wěn)定性優(yōu)異
- 可無限制的配置分析通道，所有元素同時檢測
- 方便易操作的透鏡清潔，可立即進行分析

- CCD檢測器的靈敏度可自動調節(jié)
 

真空系統(tǒng)：
- 全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對于N元素分析
- 光室真空采用二級旋轉葉片真空泵，噪音<50dB
- 單泵設計，同時運用于光源和光室
- 特殊的旋片真空泵，可限度的減少C，H元素的污染
- 內置安全閥設計，以避免突然斷電對旋轉葉片泵的損害
- 選裝件：渦輪分子泵

- 選裝件：旋轉葉片真空泵可用無油真空泵替代
 

WinG DOES軟件：
- Windows平臺運行
- 使用界面簡單、易懂，分級管理和操作
- 功能強大
- 方法建立簡便，在線指導
- 校準樣品管理，樣品添加
- 多種校準模式
- 基體總量元素測量校準
- QDP定量分析校準
- 用戶定制測量報告模式
- 數(shù)據(jù)處理和再處理功能
- 多種格式數(shù)據(jù)輸出
- 分析過程中界面語言切換

應用：
- 熱處理
   精確測量所關心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測表面污染物、夾雜物和物相比例
- 涂鍍層
   可獲得涂鍍層完整的化學組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。非導體涂鍍層，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
- 硬質合金層
   快速分析硬質合金層和熱處理工件的滲層化學組分
- 陶瓷
   采用RF光源可精確可靠的測量
- 化學組分
   精確測量化學元素含量
   高精度、高重復性檢測
   快速分析：<60s
   可分析從H至U的所有元素，檢測范圍從ppm至99%
- 太陽能電池薄膜
   檢測太陽能光伏電池薄膜中化學元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精確可靠的測量

輝光放電光譜儀主要應用領域：
- 汽車制造及零部件
- 金屬加工、制造
- 冶金
- 航空、航天
- 電子工業(yè)
- 玻璃、陶瓷
- 表面處理：化學氣相沉積、物理氣相沉積等
- 電鍍
- 光伏電池、鋰電
- 科學研究