ECL成像系統JP-K300使用范圍介紹:
ECL成像系統適用于化學發光、多色熒光檢測與普通凝膠檢測，選用了高分辨率低照度進口制冷CCD，并上乘結合大光圈電動鏡頭，可捕獲到很微弱的熒光和化學發光信號。ECL成像系統JP-K300深度制冷的CCD，較大程度的消除了背景噪聲，超大光圈鏡頭，收集微弱信號。
ECL成像系統JP-K300主要應用范圍：
印跡膜：Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。
ECL成像系統JP-K300產品特色：
采用*新一代冷卻CCD相機，605萬像素（可選配890萬像素）；
配備F/0.95大光圈定焦鏡頭，（可選配F/0.8鏡頭）具有較高的檢測靈敏度。
超光密閉的暗箱設計為化學發光和生物發光成像提供了合適的環境
可降低防散射樣品臺使光散射產生的影響
暗箱配有頂置白光光源，具有頂部白光燈
標配抽屜式雙位載物對焦平臺，可兼容拍攝各種厚度的樣品，自動對焦升降平臺
可選配電腦控制自動定位樣品載物升降平臺，并可通過電腦進行無級定位控制
用戶可自行設定定時自動關閉光源時間（0-60分鐘）
ECL成像系統JP-K300技術參數：
ECL成像系統適用于化學發光、多色熒光檢測與普通凝膠檢測，選用了高分辨率低照度進口制冷CCD，并上乘結合大光圈電動鏡頭，可捕獲到很微弱的熒光和化學發光信號。ECL成像系統JP-K300深度制冷的CCD，較大程度的消除了背景噪聲，超大光圈鏡頭，收集微弱信號。
ECL成像系統JP-K300主要應用范圍：
印跡膜：Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。
ECL成像系統JP-K300產品特色：
采用*新一代冷卻CCD相機，605萬像素（可選配890萬像素）；
配備F/0.95大光圈定焦鏡頭，（可選配F/0.8鏡頭）具有較高的檢測靈敏度。
超光密閉的暗箱設計為化學發光和生物發光成像提供了合適的環境
可降低防散射樣品臺使光散射產生的影響
暗箱配有頂置白光光源，具有頂部白光燈
標配抽屜式雙位載物對焦平臺，可兼容拍攝各種厚度的樣品，自動對焦升降平臺
可選配電腦控制自動定位樣品載物升降平臺，并可通過電腦進行無級定位控制
用戶可自行設定定時自動關閉光源時間（0-60分鐘）
ECL成像系統JP-K300技術參數：
| CCD芯片 | Sony ICX695，4/3英寸，2750×2200 (605萬像素) |
| 動態范圍 | 4.8OD.16bit灰階（0-65535） |
| 像數尺寸 | 5.4um×5.4um |
| 像素合并 | 1×1，2×2，3×3,4×4 ,6×6,8×8 |
| CCD溫度 | -45℃"優良溫度，相對于溫室-65℃ |
| 感光效率 | High QE: >75% |
| 鏡頭 | F/0.95定焦鏡頭 |
| 頂置白光光源 | 較高的均勻性對低亮度的圖像進行增強 |
| 靈敏度 | 可檢測0.01ngEB染色體DNA |
| 暗電流 | ＜0.0005e-/pixelc. |
| 濾光片輪 | 5位濾光片輪.自動控制. |
