Optima8000繼續延續PerkinElmer在ICP技術方面的成就和地位，秉承一貫的設計，提供的分辨率和線性動態范圍。更重要的是，8000的穩定性和檢出限是以往任何ICP儀器都無法企及的。
基于可靠的Optima平臺設計，在業界的Windows7兼容WinLab32軟件的控制下，8000將令您對ICP-OES刮目相看。該系列的超凡性能是通過優化進樣系統、增強等離子穩定性、簡化方法建立和大大降低操作成本的實現的。
各個實驗室對利用ICP的定義均大不相同。但是，無論您優先考慮的是精密度還是可靠性、是靈活性還是穩定性、是分析速度還是使用的簡便性，您都可以在Optima8000系列中找到理想的解決方案。
利用 PerkinElmer的平板等離子體技術，氬氣消耗只有螺旋負載線圈系統的一半，即可形成同樣強健、同樣耐高鹽基體的等離子體。這種全新的射頻發生方式，可使射頻發生器免維護，從而上降低操作成本，同時不影響性能。平板等離子體技術在任意RF功率下只需 8 公升/分鐘的等離子體氣流量。
使用 eNeb 樣品導入系統可實現 2 到 4 倍的更佳檢出限
使用革新的 eNeb（電子噴霧器）系統，樣品可地更有效、更高效地導入 Optima 中。基于精密制造的惰性噴霧頭，eNeb 可形成直徑不超過 6 微米的大小一致的液滴。這些大小一致的小液滴可更快速地干燥、霧化和電離，達到的檢出限比使用其他樣品導入系統可達到的檢出限好 2 到 4 倍。
eNeb 的噴霧頭采用堅固耐用的惰性聚合物制成，提供良好的基體相容性、耐酸性和精確性，是所有樣品類型（包括含有高鹽的樣品類型）的理想選擇。
高級光學系統確保的檢出限
為了增強光輸出量，Optima 儀器上的光學系統提供的檢測限，更容易滿足美國 EPA、EN 和 DIN 規定。使用 Dynamic Wavelength Stabilization™（型號 8000）可確保非凡穩定性和分析準確性。
的等離子雙向觀測提高效率
可以使用同一種方法測量高濃度和低濃度的元素，從而提高處理量和效率。
軸向觀測提供的檢出限，而徑向觀測的觀測高度可變，可擴充工作范圍和消除電離效應。
*的切割氣消除了干擾
這項革新技術通過消除離子的冷尾焰消除了干擾。由于它使用的是空氣，而不是氣體流量極大的抽風系統或者易于阻塞需要清洗的接口錐，尾焰切割系統免維護，可提高性能并使線性動態范圍更大。消除尾焰也從上降低了添加昂貴的電離抑制劑的需要。
可快速更換的可調節一體化炬管組件可簡化維護并優化性能
Optima 一體化炬管組件易于調節（無需工具），即使當 ICP 在運行時也如此，便于優化性能，甚至是對于最難的樣品亦如此。為增加靈活性，該儀器與各種噴霧器和噴霧室兼容，包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/Meinhard™ 多種選擇。
穩定性:2.0%
重復性:1.5%
檢出限:0.001
波長范圍:165-900
儀器種類:全譜直讀
