NX-2600整片基板帶對準可多層次納米壓印加高分辨率光刻系統經過了大量的實時實地驗證，質量可靠，性能*穩定。具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印。

基于*設計的Nanonex氣墊軟壓技術（ACP），不論模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結構，NX-2600均可對其校正補償從而獲得*的壓印均勻性， ACP消除了基板與模版之間側向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設計可獲得快速的熱壓印周期，終得到快速的工藝循環

主要特點：

所有形式的納米壓印

熱塑化

紫外固化

熱壓與紫外壓印同時進行

熱固化 

氣墊軟壓技術(ACP)

Nanonex技術

完美的整片基板納米壓印均勻性

高通量 

低于10nm分辨率 

亞1微米正面對準精度 

背面對準可選項

 快速工藝循環時間（小于60秒） 

靈活性

4″, 6″, or 8″壓印面積可選

各種尺寸及不規則形狀模板與基板均可壓印

方便用戶操作 

基于超過12年、15代產品開發經驗的自動化壓印操作 

Nanonex壓印系統經過大量實時實地驗證，質量可靠，性能*穩定 

全自動納米壓印

系統參數：

熱塑壓印模塊

溫度范圍0~250℃ 

加熱速度>300℃/分鐘

制冷速度>150℃/分鐘

壓力范圍0 ~ 3.8MPa(500 psi)

紫外固化模塊(NX-2000)

200W窄帶紫外光源

365納米或395納米波長可選

全自動化控制

對準模塊

X, Y, Z, Theta平臺

分場光學和CCD相機

基板裝載

標配納米壓印系統可裝載4″基板

6″和8″基板可選

各種尺寸及不規則形狀模板及基板均可壓印

ACP技術可大限度保護基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予大限度保護。

光刻

標配5”模板，標配4”直徑基板

其他尺寸可以提供

500瓦紫外水銀燈光源

其他參數：

配有微軟Windows的電腦控制系統 

用戶友好的控制軟件 

程序化控制壓印溫度、壓力和時間 

真空和壓縮空氣操作由電腦控制 

手動裝載/拆卸基板 

自動化壓印操作 

設備占地面積:31 × 87 英寸

(780 mm × 2210 mm) 

應用領域:

納米電子和光電子、顯示器、數據存儲介質、*材料、生物科技、納米流道等。