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  • PSS A7000 APS-DLS 激光粒度儀

PSS A7000 APS-DLS PSS A7000 APS-DLS 激光粒度儀

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具體成交價以合同協議為準
  • 型號PSSA7000APS-DLS
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-04-22
  • 廠商性質生產廠家
  • 所在地區上海市
  • 實名認證已認證
  • 產品數量43
  • 人氣值5323
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公司概況(Company Profile)

 

奧法美嘉科技有限公司

 

奧法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于醫藥行業,耕耘于納米科學材料,化工,半導體,環境科學,汽車,過濾,涂料,墨水,油品等行業,以專業的納米微米檢測技術,“致力粒度分析,專注客戶體驗”。這已經成為奧法美嘉團隊的信條。

借助于20多年的行業積累和技術儲備,奧法美嘉將世界上處于技術地位的美國PSS粒度儀公司的激光粒度儀產品引入到中國市場,秉承著“傳授粒度真知”“普及粒度知識”的理念,伴隨著納米知識的普及,伴隨著中國經濟向制造業的轉型,經過短短幾年,奧法美嘉科技有限公司作為美國PSS粒度儀公司在中國的代表,從*中心的建立運營,到如今覆蓋全中國銷售網絡和售后服務網絡,不僅用真誠的態度,而且用務實的專業知識,真正踐行“專注|粒度分析”的承諾,獲得了廣大客戶的*。

Particle Solutions srl(意大利PSI均質機公司)位于意大利海濱工業城鎮拉齊奧地區,毗鄰歷史悠久的古城羅馬,由從事粒度相關領域內杰出的歐洲科學家以及工程師所組成的團隊發起創立。公司團隊擁有25年粒度檢測知識積累,15年儀器工業設計經驗,15年高壓均質技術經驗及應用研究。

通過深入發掘客戶需求和應用難點,PSI團隊研發出了新型高壓微射流均質機,其穩定可控的均質壓力及高剪切力保證了工藝可線性放大且可保證大產量需求,低噪音的設計理念可大大減緩傳統工藝中的高噪音對于操作人員的不利影響,小巧緊湊的機身設計可以適應從實驗室研發到中試及大生產的各種工作場景。自組建以來,團隊累積了大量醫藥,生物,半導體,新材料等行業的相關應用經驗。依托于醫藥行業*的GMP管理理念,PSI均質機的現代化數字屏幕,符合GMP法規的數據溯源系統將會成為未來制造業的有力保障。

現奧法美嘉綜合PSS粒度儀和PSI均質機,為中國制造業提供納米技術領域內從生產研發設備到檢測儀器的整套解決方案。

 

企業文化(Company Philosophy)

 

“共享 共建 共發展”“求誠 求信 求真知”

 

現代企業的發展趨勢為規范化、專業化、文明化、個性化。伴隨著中國經濟的快速發展和騰飛,中國社會的各個層面在發生翻天覆地的變化,“中國制造”的標簽也會逐漸演變為“中國創造”。而企業的發展創造依靠的就是人才!人才是一切發展的基石和動力。這反過來對“人才”從素養,知識,認知,理念等各方面提出了新的要求和高度。

奧法美嘉一直秉承“共享 共建 共發展”的用人理念,“求誠 求信 求真知”的做事理念。在尋求高素質人才的同時,更加注重于已入職員工的培養。員工入職從基礎的醫藥行業準入知識開始培訓,覆蓋知識技能培訓,商務技能培訓,職業規劃到人生規劃。公司的目標之一是希望每個人都能成為合格的項目經理,成為一名有理想有追求有素養的專業職場人,且能夠獨當一面,大化實現自己的人生價值!

 

 

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產地進口 加工定制
PSS A7000 APS-DLS全自動激光粒度儀開創性的將光阻法和動態光散射法結合在一起,集自動進樣、自動稀釋、自動檢測、數據處理以及自動清洗等全自動檢測功能于一身,為用戶提供可方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析,其測量范圍可達6nm - 2500 μm。

A7000 APS-DLS搭載光阻法檢測模塊和動態光散射模塊,將瑞利散射理論和光阻理論有機結合在一起,不僅能對較大的亞微米級別的粒子進行顆粒
PSS A7000 APS-DLS 激光粒度儀 產品詳情

PSS A7000 APS-DLS 激光粒度儀 
光阻法模塊結合動態光散射模塊
自動稀釋技術,實現動態大范圍檢測

基本信息

AccuSizer Counter.jpg

儀器型號:PSS A7000 APS-DLS

工作原理:單顆粒光學傳感技術(Single Particle Optical Sizing,SPOS)

動態光散射理論(Dynamic Light Scattering, DLS)

 

檢測范圍: 6nm-2500μm

     

PSS A7000 APS-DLS全自動激光粒度儀開創性的將光阻法和動態光散射法結合在一起,集自動進樣、自動稀釋、自動檢測、數據處理以及自動清洗等全自動檢測功能于一身,為用戶提供可方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析,其測量范圍可達6nm - 2500 μm。

A7000 APS-DLS搭載光阻法檢測模塊和動態光散射模塊,將瑞利散射理論和光阻理論有機結合在一起,不僅能對較大的亞微米級別的粒子進行顆粒計數,更能檢測納米級別的樣本的粒度分布。在傳統的經典光散射(激光衍射,Laser Diffraction)之外,對于高分散體系多了一個選擇。

 

 

 

技術優勢

 

 

  • 檢測范圍廣6 nm - 2500μm;

  • 高分辨率,高靈敏性,統計精度高;

  • 雙模塊化設計,既能獨立工作,又能有機組合;

  • 集自動進樣、自動檢測、數據處理以及自動清洗等自動化功能與一身;

 

高分辨率

分辨率,在這里指的是分辨同一體系內不同粒徑大小的能力。得益于超前的設計理念和軟硬件組合,SPOS技術除了能夠呈現*不同于經典光散射的顆粒計數分布外,相對于經典的電阻法和光阻法,具有更高的分辨率和精準性。它不會錯過任何顆粒細節,而這些細節往往是決定產品好壞的標準。

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圖1高分辨率展示

 

     

如圖1所示,同一個樣本中混合0.7μm,0.8μm,1.3μm,2μm,5μm,10μm,15μm,20μm,50μm,100μm,200μm 11種標準PSL粒子,SPOS技術可以很容易將每種不同大小的標粒區分清楚。

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圖2 SPOS VS Laser diffraction

  圖2展示了同一個樣本在SPOS技術和激光衍射法(Laser diffraction,LD)粒度儀中測得的結果。樣本使用的是過400目篩(37μm)的樣本。SPOS技術(綠色線)顯示在35μm以上是沒有粒子的,這和實際情況相符。但是使用LD檢測得到的僅僅是“相似”的分布,但是在100μm本來沒有顆粒的情況下卻給出了還有大量大顆粒的假性結果。

 

高靈敏度

APS-DLS系統提供了超高的靈敏度,依托于SPOS技術,哪怕只有一顆顆粒,也不會放過,靈敏度可以達到10PPT等級。高靈敏度確保了樣品檢測的細節不被忽視,滿足了制造業升級過程中,除了粒徑檢測的需求外,還要對或大或小的游離顆粒的控制,無論是半導體行業尾端大顆粒對良率的影響,還是鋰電行業正負極材料小顆粒對安全性的危害。APS-DLS系統都可以準確識別,為制造業保駕護航。

 

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圖3 高靈敏度展示

圖3展示了一個樣本檢測前,僅加入10μL的50μm標準乳膠粒子,混合好后進行檢測,如圖所示儀器依舊很準確的檢測出來,并且告知加入的50μm標粒僅有33顆,粒徑是50.127μm。

 

高效的粒度分析

APS-DLS系統的高靈敏度、高分辨率不僅帶來了更為接近真實情況的粒徑分布,同時檢測快速,節省客戶時間,僅需幾分鐘,既可獲得檢測結果。同時儀器支持自動進樣、自動清洗、自動稀釋等功能,將大大提高實驗室工作效率,幫助他們為半導體,乳劑,粉體客戶更快地獲得重要結果。

APS-DLS系統同樣支持在線系統,集成在產線中的關鍵監控點,實時檢測粒度結果,發現異常,及時處理,降低工作成本,簡化工作流程。

 

真實的粒徑分布

粒粒皆清楚,不丟失任何細節。

不同行業對粒度檢測的需求其實一直各有側重點,為了獲得更真實的粒徑結果,往往需要通過電鏡等儀器進行分析,但存在著統計數據不足以及不利于規模化檢測的弊端。為了滿足大量即時的檢測需求,經常以犧牲精確性和分辨率來換取檢測速度和易用,但僅能獲得平均粒徑以及分布的檢測已無法滿足現在行業的發展。

APS-DLS系統對于細節的把控,可以確保檢測結果接近真實的情況,幫助質量形成統一的標準方案,監控批間差異,穩定產品質量。

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圖4 較均勻的樣品SPOS VS 電鏡下掃描結果

 

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圖5 不均勻的樣品SPOS VS 電鏡下掃描結果

圖4和圖5展示了一個均勻的樣本和一個不均勻的樣品在SPOS技術及電鏡下的檢測結果。均勻的樣本在電鏡下顆粒之間大小較為相似,相應的SPOS技術檢測可見譜圖較窄。而不均勻的樣本,電鏡下可以看到大大小小的顆粒,相應SPOS技術檢測的結果出現高高低低的峰,與電鏡結果可直接對應。

工作原理

目錄結構:

1.單顆粒光學傳感技術簡介 

2.傳統光阻法和光散法測量粒度的原理

3.PSS的SPOS技術介紹

4.自動稀釋原理介紹

1、單顆粒光學傳感技術簡介

      單顆粒光學傳感技術(Single Particle Optical Sizing, SPOS)是一種用于測量溶劑中懸浮粒子的大小和數量濃度的激光粒度檢測通用技術。在SPOS技術中液體懸浮液中的粒子流經傳感器的樣品池時,在激光光源的照射下,被阻擋或者被散射的光會轉變成脈沖電壓信號,脈沖信號的大小是由粒子的截面面積和物理判定規則即光散射或者光阻共同決定的。光阻也被稱為不透光度或者光消減。而粒子間的相互阻擋和散射是和粒子的大小和濃度是有關系的,利用脈沖幅度分析器和校準曲線便可以得到懸浮粒子的數量濃度和粒度大小分布。傳統光阻法可以測得1.5μm以上的粒子和并具有較高的分辨率。

      單顆粒傳感技術(SPOS)*了常見粒度儀檢測技術在檢測粒徑分布中的重要不足—粒子數量的統計。自AccuSizer 780系列儀器誕生,以往以犧牲精確性和分辨率來換取檢測速度和易用的歷史一去不復返!

粒粒皆清楚,不丟失任何細節。

 

2.傳統光阻法與光散射法原理

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Figure 1 光阻法檢測示意圖

      圖1為光阻法檢測原理圖,待測液體流過橫截面很小的流通池,流通池兩側裝有光學玻璃,激光器的光束通過透鏡組準直,光束穿過流通池并被光電探測器所接收。若待測液體中沒有顆粒,則光電探測器接收到的光信號穩定不變,輸出的電壓信號也恒定,將此恒定信號作為基準電壓;若液體中有顆粒物質,顆粒通過流通池傳感區域,將會遮擋激光,光電探測器接收到的光信號減小,產生一個負的脈沖電信號,如下圖2所示。

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Figure 2 光電二極管信號

      脈沖信號幅度與基準電壓信號有如下關系:

                       圖片11.png                (1)                        

      式(1)中:E為顆粒遮擋引起的脈沖幅度;a為顆粒的有效遮擋面積(等效為球形);A為光電探測器的有效面積;E0是沒有顆粒時的光電探測器所產生的基準電壓。因此,脈沖信號幅度對應顆粒的大小,脈沖信號個數對應顆粒的數量。

 

圖片8.png

Figure 3 光散射法檢測原理圖

 

      圖3為光散射法檢測原理圖,待測液體流過流通池,流通池兩側裝有光學玻璃,激光器的光束通過透鏡組準直,光束穿過流通池,照射在光陷進上。若待測液體中沒有顆粒,則光電探測器就收不到光信號,若液體中有顆粒,顆粒通過流通池,與激光光束發生散射現象。某一個(或幾個)角度下的散射光通過透鏡收集匯聚到光電探測器上,產生正的電信號脈沖,脈沖信號的幅度和散射光強成正比。根據信號的幅度和個數可以對液體中的微小顆粒進行計數檢測。

      當光束照射含有懸浮微粒的液體時光能減弱。根據文獻, 此時懸浮液中微粒會對光產生散射和吸收等作用,因為這些作用導致的光強減弱與微粒的濃度存在線性關系。在文獻中引用了如下公式,來描述當微粒濃度較小時,透射光強與入射光強之間的關系:

                                    1577260612(1).jpg

      它對應于因為散射和吸收而導致光的衰減總量。有米氏散射的理論,隨著微粒的增大,光強大量集中于前向0度角附近,圖1中我們也可以注意到這一點。(4)式中沒有考慮到這樣的事實:在光阻法檢測中,前向0角度附近的散射光仍然能夠被探測器接收,因此必須考慮對散射系數進行修正。實際中(4)式變為:

           1577260670(1).jpg                   

3.PSS技術的單顆粒光學傳感技術簡介

      經過光感區域的粒子由于大小不同,光強隨之產生相應的變化。將探測器收集的光信號轉換成電壓信號,不同的電壓信號對應不同的粒徑大小,從而得到微粒的粒徑。美國PSS粒度儀公司(Particle Sizing Systems)的單顆粒光學傳感技術(Single Particle Optical Sizing,SPOS)是在傳統光阻法(LE)大顆粒光學傳感技術的基礎上加入了激光散射模塊(LS)。在兩個模塊(LE+LS)同時運行的情況下,檢測下限由原來純光阻的1.5μm下探至0.5μm。使得其在大顆粒檢測領域的應用更加的廣泛。

      SPOS技術對粒子的信號響應方式是信號與特定粒子相對應的。AccuSizer 780系列儀器中的傳感器通過兩種不同性質的物理作用:光消減(light extinction, LE)與光散射(light scattering, LS)對通過傳感器的粒子進行測定。光消減技術檢測通過流動池的光強變化,擁有檢測粒子的粒徑范圍廣且與粒子組份無關等優點。然而,它的靈敏度有限。另一方面,光散射技術具有相對窄的動態粒徑范圍 (取決于檢測器/放大器的飽和值),但能檢測到小粒徑的粒子,使用大功率激光光源還能檢測到粒徑更小的粒子。通過合并光消減和光散射響應信號,傳感器可同時擁有這兩種方法的優點,因而在不損失單粒子分辨率巨大優勢的前提下擁有相對較廣的動態粒徑范圍。

圖片9.png

圖4 PSS的SPOS原理圖

 

4. 自動稀釋原理介紹

      單顆粒光學傳感技術(Single Particle Optical Sizing, SPOS)雖然具有*的量化粒度分布的優點,但是相應的粒子間的重合效應會造成檢測結果不準。PSS粒度儀使用的自動稀釋機制,可以將樣品稀釋到目標濃度,然后再采集數據,保證粒度可以以“single”狀態通過傳感器,從而實現高濃度樣本的檢測。

      系統可以根據稀釋倍數自動計算給出原樣品顆粒濃度,解決了高濃度樣品的檢測難題,適合測試其他技術手段無法檢測高濃度樣本,更加適合測量樣品量稀少且珍貴的樣品。

圖片10.png

 

圖5 自動稀釋原理圖

分析方法及原理

動態光散射法+光阻法

激光光源

15mW固態光源(可選35mW、50mW)

檢測器

搭配多檢測器,PMT、APD、LE

檢測形式

連續檢測

測量范圍

(傳感器可選)

6nm - 2500μm

檢測角

10-175°

準確性

±1%

重復性

±1%

樣品類型

水相/有機相

通道數量

512

流速范圍

60-180ml/min

進樣量

5μl-5ml

取樣方式

手動/自動

自動稀釋

標配二步稀釋

自動清洗

支持

循環系統

一體化設計

品濃度限值

1011個/ml

Chamber

30ml

閥門驅動方式

標配:電動

選配:氣動

稀釋系統

標配:超純水

選配:有機溶劑

攪拌器

標配:磁力攪拌(轉速可控)

選配:機械攪拌

Windows系統

Windows 7以上專業版操作軟件

分析操作軟

標配:Windows兼容 研發軟件

電源選項

220 – 240 VAC50Hz 100 – 120 VAC60Hz

乳劑

      兩種互不相溶的液體經乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。加工過程中它們均需均質化處理到所需的粒徑大小以期獲得穩定體系,延長保質期。乳劑穩定性與顆粒粒徑分布密切相關,僅關注粒徑大小并不代表一定穩定,乳劑中存在極為少量的微米級別大顆粒,而這些顆粒的存在不僅會導致樣品穩定性變差,注射使用更會對患者造成嚴重不良反應。

化學機械拋光液

(CMP SLURRY)

化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟。化學機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構型。晶片的加工誤差通常以埃計,對晶片質量至關重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學機械拋光加工過程的順利進行。

墨水

隨著打印機技術的不斷發展,打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應當控制在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質量。墨水是通過研磨方法制得的,可用粒度檢測分析儀器設備監測其研磨加工過程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產生聚集的大顆粒。

粉材

對于氧化鋁、硅微粉、鋰電池正負極等粉體來說,粒徑需要控制在合適的范圍內才能確保粉體的質量,無論是過大還是過小都會影響材料本身的質量。以氧化鋁為例,氧化鋁顆粒過小則在生產過程中容易起塵,造成大量的損耗,被認為是冶金級“垃圾”如果顆粒過大,則具有形成沉淀的傾向,影響氧化鋁在電解質中的溶劑速率。

 

 

 

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