電子束蒸發鍍膜儀
E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。
簡單介紹：
電子束蒸發鍍膜儀系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。
詳情介紹：
電子束蒸發鍍膜儀設備用途：
用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
技術參數：
結構形式 | 真空室采用U型箱體前開門，后置抽氣系統 | |
真空室 | 500×500×600mm2 | |
真空系統配置 | 復合分子泵、機械泵、閘板閥 | |
極限壓力 | ≤6. 67×10-5Pa (經烘烤除氣后）； | |
恢復真空時間 | 45分鐘可達到6. 67×10-4Pa (系統短時間暴露大氣并充干燥 氮氣后） | |
電子束 蒸發源 | e型電子槍 | 陽極電壓：6kv、8kv; |
數量（套） | 1 | |
坩堝 | 水冷式坩堝，四穴設計，每個容量11ml | |
功率 | 0一6 KW可調 | |
電阻蒸發源 (可選） | 電壓 | 5、10V |
功率 | 電流300A，*大輸出功率3KW | |
數量 | 1套，可切換 | |
水冷電極 | 3根，組成2個蒸發舟 | |
工件架類型及尺寸 | 基片尺寸：可放置4”基片，加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續回轉，轉速5~60轉/分 基片與蒸發源之間距離300~350mm可調，手動控制樣品擋板組件1套 | |
氣路系統 | 200SCCM質量流量控制器1路 | |
石英晶振膜厚控制儀 | 監測膜厚顯示范圍：0~99 u 9999A; | |
設備占地面積 | 主機 | 900×800mm2 |
電控柜 | 800×800mm2 (兩個） | |
