功能特點：
真空爐CVD系統，混氣系統，真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃，通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。
產品用途：
真空爐CVD系統高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備
產品參數

• 爐體結構：雙層爐殼間配有風冷系統，有效保證外殼表面溫；真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好
• 電源電壓：AC220V 50/60Hz；
• 功率：4KW
• 爐管材質：高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小
• 爐管尺寸：Φ40/60/80/100*1200mm
• 加熱系統：加熱元件采用優質合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負荷高、經久耐用
• 加熱區長度：440mm
• 恒溫區長度：200mm
• 工作溫度：≤1150℃
• *高溫度：1200℃
• 升溫速率：10℃/min
• 溫控系統：溫度控制采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能30段升降溫程序
• 測溫元件：N型熱電偶
• 恒溫精度：±1℃
• 混氣系統：三路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制
• 內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥
• 管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套
• 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥
• 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量
• 流量規格：0~1SLM
• 流量精度：±1.5%
• 真空系統：采用雙極旋片真空泵，真空度可達5x10-1 Torr
• 標準配件：數顯式真空壓力表；可選高真空系統及真空計，壓力控制系統等
• 可選配件：混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。