紫外光表面清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。1簡介七十年代中期美國軍事電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在軍事領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程，并開始向我國個別外資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后，日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時，紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。在二十世紀(jì)末，日本等*工業(yè)國家紫外光表
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