摘要 光進電氣工業KOSHIN超聲波清洗器MegaS spMegaS sp兆聲波噴嘴型,MegaS BW淹沒型,MegaS tp 兆聲換能器板,Megas 9e兆聲波霧化發生器

摘要 清洗機鋁合金吹水風刀在工業領域可以實現大量吹風除水、吹風除塵等應用，如吹除鋼板，鋁合金型材等平面上的灰塵、水分，吹除飲料瓶、包裝罐等瓶體表面的水分，吹除產品表面的雜質灰塵，殘液，外包裝上的水分，以及傳送帶清理等。也適合于吹氣、除水、除塵、吹水分除干燥，吹風冷卻等等。

摘要東京理化EYELA研究輔助設備均質器PT1200E均質器：PT1200E,VCX-130PB,VC-505,PT-DA03,2EC-E050,2EC-F078電子天平：secura5102,Practum5101,HT-84R,AJII-320,CJ-220,CJ-1...

摘要MARIMEXROV相關設備Caviblaster1325-GSSCaviblaster1325-GSS，Caviblaster1228G；Caviblaster1325-GSS：Caviblaster1325-GSS是一種新產品。推車、卸料器和軟管快速接頭部件由不銹...

摘要 MARIO NETWORK臭氧UV水殺菌機UZ-110-6UV+臭氧水殺菌機UZ-110-6，儲水殺菌水箱層，UV殺菌機，海水殺菌過濾器，

摘要 MARIO NETWORK紫外線水殺菌機MSS101消毒器MSS101,MSS151,MSS401,MSS901,MSS902,MSS904,MSS906,MSS908,MSS1101,MSS1102,MSS1104,MSS1106,MSS1108,MSS11010,

摘要 MARIO NETWORK紫外線臭氧殺菌機空氣凈化器用于空氣殺菌除臭的臭氧燈，空氣凈化器，Handy clean（帶定時器）

摘要 MARIO NETWORK下型UV層紫外線殺菌設備下型UV層（254nm紫外線）殺菌機，No-Germ（傳送帶式/用于傳送帶安裝）帶傳送帶的紫外線消毒器

摘要 MARIO NETWORK臺面輸送式UV清洗改性機OPL16OPL16 ，OPL1002 ，OPL21， OPL2002，

摘要 MARIO NETWORK紫外線臭氧清洗機OPL2001OPL2001， OPL1102 ，OPL2003，桌面批量式UV洗滌.UV改性裝置:SK50N，桌面批量式UV洗滌·UV改性裝置:SK100N

摘要 快速玻璃珠滅菌器是利用高溫玻璃珠，對小型實驗器材進行快速滅菌的產品。十秒鐘內能有效地對小型固體金屬與玻璃器具進行消毒滅菌，高效地消滅細菌與孢子，可用于手術鉗、剪刀、鑷子、解剖刀、針頭、接種環與接種針等，常用于科研實驗室。

摘要 薄膜氧氣透過率測試儀 賽成儀器采用庫侖氧氣傳感器和等壓法測試原理，參照ASTM D3985等標準設計制造，適用于高、中氧氣、空氣阻隔材料，用于測試其氧氣透過率。適應用于食品、藥品、醫療器械、日化、光伏、電子、工業品等領域的薄膜、片材、容器及相關材料的氧氣透過性能測試。

摘要 kyowapmp高壓清洗機KYC-708C

摘要 kyowapmp高壓清洗機KYC-708B

摘要 KAIJO超聲波清洗機PHENIX HYPER 75225VS，強力低損傷超聲波清洗機，可以發揮高效清洗效果。

摘要 KAIJO超聲波清洗機PHENIX HYPER 75119，強力低損傷超聲波清洗機，可以發揮高效清洗效果

摘要 KAIJO雙嘴噴頭振子清洗機SHOWER 28223，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO雙嘴噴頭振子清洗機SHOWER 17223，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO振子清洗機QUAVA SHOWER 29220H，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO超聲波清洗機QUAVA SHOWER 29220，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO振子超聲波清洗機QUAVA SHOWER 28220，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO超聲波清洗機QUAVA SHOWER 17220，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 日本KAIJO芯片清洗機QUAVA SHOWER 27220，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO超聲波清洗機QUAVA SHOWER 16SS，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO超聲波清洗機QUAVA29110 QT-011，適用于半導體晶圓、硬盤、FPD等片狀物的清洗。

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWER78BK30-660用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWER6879BK用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWER6879BK用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD98S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD88S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD78S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD68S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 KAIJO水幕清洗機USSHOWERAD58S用于大型液晶基板和半導體晶圓的單片清洗.由于淋浴和超聲波同時清洗，因此無需重新安裝即可進行超精密清洗

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

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摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置

摘要 ＱUAVA系列發生器（26kHz～950kHz）可用0.1W功率設置