氦質(zhì)譜檢漏儀利用磁偏轉(zhuǎn)原理制成的、對示漏氣體氦反應(yīng)靈敏的、用于檢漏的質(zhì)譜儀。

氦質(zhì)譜檢漏儀氣體工業(yè)名詞術(shù)語，用氦氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數(shù)小，因而易通過漏孔并易擴(kuò)散;另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設(shè)備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到僅對氦起反應(yīng)的工作狀態(tài))的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。

為什么要檢漏？

很多情況下，我們需要密封住一定的空間，防止氣體或液體在壓力作用下，流進(jìn)或流出這個空間，如真空設(shè)備(真空鍍膜機(jī)，液晶注入機(jī)，PVD，半導(dǎo)體外延等等)，需要在真空條件下工作，要求在工作時，空氣不能漏進(jìn)工作腔體，否則生產(chǎn)不能進(jìn)行，或者產(chǎn)生次品，浪費(fèi)人力物力。另外裝液體或氣體的容器(液壓氣瓶，氧氣瓶，空調(diào)冰箱的雪種容器等等)，要求在容器內(nèi)外存在壓差的情況下，不能有氣體或液體漏出。如果有漏，后果嚴(yán)重，一般會造成有效物資的浪費(fèi)，如有毒物資、腐蝕性氣體漏出，甚至?xí)劤墒鹿省＿@些對密封性有要求的產(chǎn)品或設(shè)備，在投入使用前，就要*行檢漏，使用過程中也要定期利用氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行檢漏檢查。

氦質(zhì)譜檢漏儀原理通常有兩種，一種為常規(guī)檢漏，另一種為逆擴(kuò)散檢漏。

逆擴(kuò)散檢漏是把被檢件接在分子泵出氣口一端，漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進(jìn)入安裝在泵的進(jìn)氣口端的質(zhì)譜管內(nèi)而被檢測。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質(zhì)量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強(qiáng)與進(jìn)氣口壓強(qiáng)之比)即利用不同氣體的逆擴(kuò)散程度不同程度而設(shè)計(jì)的。

逆擴(kuò)散原理

逆擴(kuò)散方式檢漏允許被檢件內(nèi)壓強(qiáng)較高，氦質(zhì)譜檢漏儀可達(dá)300Pa(一般常規(guī)檢漏儀為0.05Pa以下)，適合檢大型容器或有大漏的器件，也適合吸槍檢漏。逆擴(kuò)散方式還具有質(zhì)譜管不易受污染，燈絲壽命長等優(yōu)點(diǎn)。

1、吸槍法

被檢件充入高于大氣壓的探索氣氦，檢漏儀的檢漏口連接稱之為吸槍的氣體采集器。當(dāng)試件有漏時，泄漏的氦氣被吸槍吸入檢漏儀，而被檢測。吸槍在試件表面移動，同時注視檢漏儀漏率指示的變化，一旦泄漏增加，吸槍所指位置即漏點(diǎn)所在。因此吸槍法也是能確定漏孔的檢漏方法。

2、鐘罩發(fā)——測總漏率

將被檢件與儀器檢漏口聯(lián)接抽真空，在被檢件外面罩以充滿氦氣的容器，如被檢件有漏孔，氦氣便由漏孔進(jìn)入被檢件，終達(dá)到質(zhì)譜管被檢測。所測漏率是被檢件的總漏率，不能確定有幾個泄漏點(diǎn)和每個漏點(diǎn)的準(zhǔn)確位置?？梢钥闯鲧娬址ㄊ腔趪姶捣ǖ囊环N檢漏方法。

3、背壓法——測總漏率

電子元器件進(jìn)行氣密性檢測時常用背壓法。檢漏前用加壓容器向被檢件壓入氦氣(由壓力和時間控制壓入的量)，然后取出被檢件，吹去表面吸附氦后放入檢漏罐中，再將檢漏罐聯(lián)接到檢漏儀的檢漏口上，對檢漏罐抽真空，實(shí)施檢漏。若器件有漏，則通過該漏孔壓人的氦氣又釋放出來進(jìn)入檢漏罐，終到達(dá)質(zhì)譜管。用這種方法測得的漏率也是總漏率。

4、輔助真空系統(tǒng)

對于漏氣速率和放氣速率較大或者體積較大的被檢件，若直接與檢漏儀相連，檢漏儀的真空度可能抽不上去，使檢漏儀無法工作。此種情況須加接輔助真空系統(tǒng)，提高對被檢件的抽速。簡單的輔助真空系統(tǒng)只需一個機(jī)械泵和兩個閥門，復(fù)雜的系統(tǒng)可由前級泵、次級泵、閥門、真空規(guī)及標(biāo)準(zhǔn)漏孔等組成。次級泵可用擴(kuò)散系或羅茨泵，前級系用氣鎮(zhèn)式機(jī)械泵。