晉中市二氧化氯發(fā)生器*

發(fā)明內(nèi)容

　　本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種改進(jìn)的電子工業(yè)含氟含氨氮廢水處理用反滲透膜裝置的清洗方法。

　　為解決以上技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

　　一種電子工業(yè)含氟含氨氮廢水處理用反滲透膜裝置的清洗方法，所述反滲透膜裝置包括*段反滲透膜及與所述*段反滲透膜的濃水出水口相連的第二段反滲透膜，所述方法為對(duì)*段反滲透膜和第二段反滲透膜進(jìn)行獨(dú)立清洗，且采用不同的清洗液，其中采用能夠除去有機(jī)物、微生物和膠體的清洗液對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗;采用能夠除去有機(jī)物、微生物、膠體、無(wú)機(jī)鹽結(jié)晶以及各種形式的硅化物的清洗液對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗。

　　根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步實(shí)施方案，采用堿性或酸性洗液對(duì)*段反滲透膜進(jìn)行清洗。優(yōu)選地，采用質(zhì)量濃度0.08%～1.2%的氫氧化鈉溶液和/或質(zhì)量濃度為0.1%～0.3%的鹽酸溶液對(duì)*段反滲透膜進(jìn)行清洗。

　　根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步實(shí)施方案，采用添加有分散劑和/或還原劑的堿性溶液或酸性溶液對(duì)第二段反滲透膜進(jìn)行清洗。

　　優(yōu)選地，所述的分散劑為Na4-EDTA;所述的還原劑為NaHSO3或者Na2S2O3。

根據(jù)一個(gè)具體且優(yōu)選方面，對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗的清洗液中含有:

　　a)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.08%～1.2%的氫氧化鈉或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%～0.3%的鹽酸;和選自下述b)和c)中的一種：

　　b)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.8%～1.2%的Na4-EDTA和/或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.02%～0.03%的NaSDS;

　　c)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.8%～1.2%的NaHSO3和/或Na2S2O3。

　　根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體且優(yōu)選方面，進(jìn)行清洗時(shí)，將清洗液盛裝于清洗罐中，利用管道和清洗泵使清洗液經(jīng)*段反滲透膜或第二段反滲透膜的進(jìn)水口通入，對(duì)相應(yīng)的反滲透膜的內(nèi)部進(jìn)行清洗后，再?gòu)南鄳?yīng)的反滲透膜的濃水出口排出并重新回到清洗罐，循環(huán)清洗多次。

　　優(yōu)選地，對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗時(shí)，控制清洗液的溫度為20～30℃，流量為每支膜殼35～45GPM，清洗泵的壓力為0.5～4.0Bar。

　　優(yōu)選地，對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗時(shí)，控制清洗液的溫度為20～30℃，流量為每支膜殼35～45GPM，清洗泵的壓力為0.5～4.0Bar。優(yōu)選地，采用一個(gè)清洗罐，分別通過(guò)*連接管路和第二連接管路將所述清洗罐與所述的*段反滲透膜的進(jìn)水口和第二段反滲透膜的進(jìn)水口連通，對(duì)*段反滲透膜和第二段反滲透膜的清洗一先一后進(jìn)行，清洗其中一個(gè)時(shí)，將另一個(gè)對(duì)應(yīng)的連接管路關(guān)閉，并加入相應(yīng)的清洗液，清洗完一個(gè)，清洗另一個(gè)時(shí)，將前面的清洗液排盡，再加入對(duì)應(yīng)的清洗液進(jìn)行清洗。

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