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MK-300成像光譜儀BUNKOUKEIKI分光計器用途

MK-300成像光譜儀

采用新設計光學系統的正式聚氯乙烯。

CCD檢測受光面全域空間分辨率優異。使用支管光纖等進行多點同時光譜測量，以及通過與顯微鏡連接進行光譜測量等。

衍射光柵最多可以搭載3張，搭載了電氣控制器，可以用USB電纜連接PC，用附帶的專用軟件進行波長驅動和衍射光柵切換。

特點：

將散光減少到極限，大幅改善波長兩端產生的分辨率降低

最多可以安裝3個衍射光柵

多點同時光譜測量

觀測圖像的光譜測量

檢測器的切換類型也有陣容。

規格：

反線型方差 2.58nm/mm

光學系統像差校正型特殊光學系統

亮度 F=4.4

波長分辨率半幅0.2nm（3pixels以內）

迷光 5×10-3以下

波長準確度 ±0.2nm（3pixels以內）

波長再現性 ±0.2nm（3pixels以內）

衍射光柵切換再現性 ±0.2nm（3pixels以內）

光學波長范圍 200～1000nm

波長移動方式正弦機構、波長線性移動

波長驅動方式步進馬達驅動（PC?專用軟件控制）

衍射光柵時刻線有效50×50mm

衍射光柵切換方式步進馬達驅動（最多可搭載3張）

入射狹縫寬度：0.01～4mm（雙開對稱連續可變?讀取最小刻度0.01mm）

手動快門（可選擇自動快門）

軟件衍射光柵切換·波長移動（USB連接）

＊CCD檢測器受光尺寸26.6mm（1024×256pixels 26µm/pixels）的情況

EMDP-100光譜系統

這是一種通過Retroller色散棱鏡和E殼衍射光柵的交叉分散雙光譜配置，能夠以高分辨率同時測量廣波長范圍的系統。搭載ANDOR制ICCD檢測器，可以使用分光儀表專用軟件Blux進行控制。

通過結合各種測量用光學系統，可以對應等離子體光譜、PL和LIBS等所有測量。

特點:

一臺E殼光譜系統實現了波長范圍200～900nm的測量。

通過選擇Retroller色散棱鏡，可以從P1（200～270nm）、P2（270～410nm）、P3（410～900nm）3種測量波長范圍中選擇。

測量分辨率在整個區域8500（λ/△λ）達到以上。

在專用軟件Blux中，可以進行從ICCD檢測器測量的數據讀取到光譜顯示的數據處理（波長、順序連接、等間隔校正等）。

規格:

光學布置交叉色散雙光譜儀

測量波長范圍【3波長范圍】 200～900nm【200～270nm（P1）?270～410nm（P2）?410～900nm（P3）】

測量分辨率 8500以上（狹縫寬度50μｍ）

半光譜寬度 0.02～0.1nm（200～900nm）

焦距波長色散用330mm階數分離用200mm

開口比 F=10

波長色散埃殼衍射光柵

次方差利特勒分散棱鏡

入射端口帶XY調整功能的光纖支架

ICCD元件數 W2048×H512 pixel（有效1800×512pixel)

ICCD元件尺寸 13.5×13.5μm

ICCD區域大小 W27.648mm×H6.912mm（有效W24.975mm×H6.912mm）

MK-300成像光譜儀

EMDP-100埃殼光譜系統

CLP-400透鏡光譜儀

CLP-50顯微鏡連接用成像光譜儀

CLP-105 UV紫外線成像光譜儀

MCC-135多波長同時測量相機

重氫光源30W

鹵素燈電源

Xseries氙燈光源（通常）

XERseries氙燈光源（反射器）

Nseries陶瓷加熱器光源（紅外光源）

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