公制長(zhǎng)方體量塊
	量塊標(biāo)稱長(zhǎng)度的極限偏差和長(zhǎng)度變動(dòng)量允許值（GB/T6093-01；DIN861；JISB7506）
標(biāo)稱長(zhǎng)度L（mm）	K級(jí)		0級(jí)		1級(jí)		2級(jí)		3級(jí)
	（±）長(zhǎng)度極限偏差	長(zhǎng)度變動(dòng)量	（±）長(zhǎng)度極限偏差	長(zhǎng)度變動(dòng)量	（±）長(zhǎng)度極限偏差	長(zhǎng)度變動(dòng)量	（±）長(zhǎng)度極限偏差	長(zhǎng)度變動(dòng)量	（±）長(zhǎng)度極限偏差	長(zhǎng)度變動(dòng)量
	大允許值µm
L≤10	0.20	0.05	0.12	0.10	0.20	0.16	0.45	0.30	1.00	0.50
10<;L≤25	0.30	0.05	0.14	0.10	0.30	0.16	0.60	0.30	1.20	0.50
25<;L≤50	0.40	0.06	0.20	0.10	0.40	0.18	0.80	0.30	1.60	0.55
50<;L≤75	0.50	0.06	0.25	0.12	0.50	0.18	1.00	0.35	2.00	0.55
75<;L≤100	0.60	0.07	0.30	0.12	0.60	0.20	1.20	0.35	2.50	0.60
100<;L≤150	0.80	0.08	0.40	0.14	0.80	0.20	1.60	0.40	3.00	0.65
150<;L≤200	1.00	0.09	0.50	0.16	1.00	0.25	2.00	0.40	4.00	0.70
200<;L≤250	1.20	0.10	0.60	0.16	1.20	0.25	2.40	0.45	5.00	0.75
250<;L≤300	1.40	0.10	0.70	0.18	1.40	0.25	2.80	0.50	6.00	0.80
300<;L≤400	1.80	0.12	0.90	0.20	1.80	0.30	3.60	0.50	7.00	0.90
400<;L≤500	2.20	0.14	1.10	0.25	2.20	0.35	4.40	0.60	9.00	1.00
500<;L≤600	2.60	0.16	1.30	0.25	2.60	0.40	5.00	0.70	11.0	1.10
600<;L≤700	3.00	0.18	1.50	0.30	3.00	0.45	6.00	0.70	12.0	1.20
700<;L≤800	3.40	0.20	1.70	0.30	3.40	0.50	6.50	0.80	14.0	1.30
800<;L≤900	3.80	0.20	1.90	0.35	3.80	0.50	7.50	0.90	15.0	1.40
900<;L≤1000	4.20	0.25	2.00	0.40	4.20	0.60	8.00	1.00	17.0	1.50
注：距離測(cè)量面邊緣0.8mm范圍內(nèi)不計(jì)。

量塊測(cè)量指南：

1、使用量塊時(shí)需要遵守以下要求：

a．使用盡可能少的量塊獲得所需尺寸。

b．盡可能地選用厚量塊。

c．先選次要數(shù)值，再選主要數(shù)值。

2、使用合適的工具清潔量塊。

3、檢測(cè)毛刺。

使用光學(xué)平晶步驟如下：

a．清潔測(cè)量面。

b．使光學(xué)平晶與測(cè)量面輕輕接觸。

c．在測(cè)量面上緩緩滑動(dòng)光學(xué)平晶使光學(xué)干涉條紋顯示檢測(cè)1：如果無(wú)干涉條紋，則測(cè)量面上有毛刺或灰塵。

d．在測(cè)量面上輕壓光學(xué)平晶，干涉條紋將消失。

檢測(cè)2：如果干涉條紋消失，則平面上無(wú)毛刺。

檢測(cè)3：如果干涉條紋不消失，則緩緩移動(dòng)光學(xué)平晶;

如果干涉條紋始終在測(cè)量面的同一位置，則測(cè)量面上有毛刺；如果干涉條紋始終在光學(xué)平晶的同一位置，則平晶上有毛刺。

e．清去毛刺

4.使用少量油均勻散布于整個(gè)測(cè)量面，再擦干油跡。

潤(rùn)滑脂、測(cè)量軸油，凡士林均可使用。

5.根據(jù)使用尺寸，按以下方法使兩測(cè)量表面接觸，并研和一體。

公制量塊允差表

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公制量塊允差表