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半導體泵浦激光原理實驗系統/泵浦激光原理實驗系統 型號；DP-XGL-2
DP-XGL-2型半導體泵浦激光原理實驗系統采用波長為808nm的半導體泵浦源，激光晶體為ND:YVO4以及KDP倍頻晶體等，構成整個實驗系統。主要適用于大學近代物理教學，學生可以自己動手，通過調整激光器光路，觀察倍頻現象，并測量倍頻效率、相位匹配角等參數，從而步了解和掌握激光原理及激光。
DP-XGL-2型半導體泵浦激光原理實驗系統采用波長為808nm的半導體泵浦源，激光晶體
為ND:YVO4以及KDP倍頻晶體等，構成整個實驗系統。主要適用于大學近代物理教學，學生可以自己動手，通過調整激光器光路，觀察倍頻現象，并測量倍頻效率、相位匹配角等參數，從而步了解和掌握激光原理及激光。
成套性：
光學導軌、二維調整架、四維調整架；
泵浦光源：808nm半導體激光器
指示光源：He-Ne激光器
晶體：ND:YVO4以及KDP
輸出鏡 激光功率計
可開實驗：
半導體激光(LD)與LD泵浦固體激光器的原理與區別
激光閥值、激光斜率的測量
激光倍頻原理和實驗
激光發散角測量
激光器光斑尺寸的測量
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