洗凈用高純度濕式化學品

HCl/H₂O₂/H₂O(SC2):

利用雙氧水氧化污染的金屬，而HCL與金屬離子生成可溶性的氯化物而溶解。

HCl:H₂O₂:H₂O=1:1:6，在70度下進行5~10分鐘的清洗；

SC1、SC2標準溶液都屬于RCA制程

 H₂SO4/H₂O₂(Piranha Clean, Caro Clean):

利用硫酸及雙氧水的強氧化性和脫水性破壞有機物的碳氫鍵，去除有機不純物。

H₂SO₄:H₂O₂=2~4:1，在130度高溫下進行10~15分鐘的浸泡。

光刻用高純度濕式化學品

光阻-樹脂、感光劑、溶劑

光阻稀釋液-PGMEA PGME，清除晶圓殘余光阻

顯影劑-TMAH TEAH

美國EMC公司成立于1946年，作為一家高科技公司，從成立至今，EMC一直專業從事在線硫酸濃度儀的研究開發和制造工作，產品廣泛應用于半導體行業。1952年，EMC推出自己的*臺在線臨界角TMAH濃度儀，用于檢測TMAH溶液濃度。MPR E-Scan是EMC推出的TMAH在線濃度儀，因為采用臨界角測量的技術，它非常適合于各類化工液體產品如TMAH、TMACL、H2SO4、H2O2、氨水等的過程濃度測試。因為具有豐富多樣的安裝適配器，MPR E-Scan適合于安裝于幾乎任何場所。

MPR E-Scan是一個微處理器驅動的臨界角濃度儀，因為采用分體式設計，將儀器CPU和主要電路板與光學部分分離，使系統更耐高溫和振動、穩定性更好、測試更準確、有效使用壽命更長。它能在即時顯示產品濃度值的同時，將該濃度值傳輸到系統，便于系統集成控制。

臨界角在線TMAH濃度儀 MPR E-Scan能直接安裝在管道或者容器上，進行濃度的測量和控制。它能直接顯示出：質量百分比濃度(Percent)、固形物含量(Solids)或(R.I.)等。它的高可靠性和高精度能為用戶的過程控制直接創造價值。