平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測(cè)量高光潔表面的平面度誤差，為用平面平晶檢驗(yàn)量塊測(cè)量面的平面度誤差。
用途：
平行平晶是用于以干涉法測(cè)量塊規(guī)，以及檢驗(yàn)塊規(guī)、量規(guī)、零件密封面、測(cè)量?jī)x器及測(cè) 平晶量工具量面的研合性和平面度的 常用工具。
適用于光學(xué)加工廠、廠礦企業(yè)計(jì)量室、精密加工車間、閥門密封面現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)使用，也適用于高等院校、科學(xué)研究等單位做平面度等檢測(cè)。
平行平晶的測(cè)量方法：
平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測(cè)量平面度誤差的，故其測(cè)量方法稱為平晶干涉法,也稱技術(shù)光波干涉法。測(cè)量時(shí),把平晶放在被測(cè)表面上,且與被測(cè)表面形成一個(gè)很小的楔角θ以單色光源照射時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關(guān)。如入射光線垂直于被測(cè)表面，且平晶與被測(cè)表面間的間隙很小,則由平晶測(cè)量面P反射的光線與被測(cè)表面反射的光線在測(cè)量面 P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現(xiàn)彩色干涉條紋。如干涉條紋平直，相互平行,且分布均勻,則表示被測(cè)表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲，則表示平面度不好。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)
λ為光波波長，白光的平均波長為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量，ω為干涉帶間距。
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