如何避免蒸餾過(guò)程中樣品暴沸？

時(shí)間：2024/12/29閱讀：104

日常實(shí)驗(yàn)中，大家在使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀對(duì)樣品進(jìn)行分離提純的時(shí)候，會(huì)發(fā)生突然暴沸的情況，導(dǎo)致暴沸的原因有：

1、蒸發(fā)瓶轉(zhuǎn)速過(guò)快，加熱鍋溫度過(guò)高，導(dǎo)致蒸發(fā)瓶?jī)?nèi)的樣品受熱不均，引起暴沸；

2、真空度控制不精確，常見(jiàn)于真空值劇烈下降，使得溶液沸點(diǎn)迅速降低至加熱溫度以下，引起暴沸；

3、物料組成成分配比的原因?qū)е卤┓校Ｒ?jiàn)于活性成分或低沸成分中，這與樣品特息相關(guān)。

如果暴沸的情況較嚴(yán)重，建議調(diào)節(jié)真空度，適當(dāng)降低加熱鍋溫度，調(diào)節(jié)蒸發(fā)瓶轉(zhuǎn)速，并對(duì)樣品進(jìn)行少量多次蒸餾處理。

避免暴沸的核心在于對(duì)蒸餾系統(tǒng)真空度的精確控制，德國(guó)Heidolph致力于為用戶提供完整的蒸餾解決方案，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀搭配真空泵及真空控制系統(tǒng)的組合方案使用戶輕松應(yīng)對(duì)個(gè)性化、嚴(yán)苛的蒸餾任務(wù)，并滿足理想的實(shí)驗(yàn)效果。

常見(jiàn)的真空控制系統(tǒng)主要有兩種：內(nèi)置真空控制系統(tǒng)及外置真空控制系統(tǒng)。

內(nèi)置真空控制系統(tǒng)

Heidolph控制型旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀通過(guò)控制單元實(shí)現(xiàn)了集中控制所有工藝參數(shù)：真空、冷卻溫度、轉(zhuǎn)速及加熱鍋溫度。通過(guò)DAA動(dòng)態(tài)精蒸餾模式，可在加熱鍋的加熱階段開(kāi)始全自動(dòng)蒸餾過(guò)程，系統(tǒng)真空隨加熱鍋溫度變化而變化，直至加熱鍋達(dá)到設(shè)定的溫度，實(shí)現(xiàn)沸點(diǎn)識(shí)別。有效避免暴沸、發(fā)泡的情況，高效蒸餾。

外置真空控制系統(tǒng)

目前基礎(chǔ)款旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀不具備內(nèi)置真空控制系統(tǒng)，一般建議選擇搭配電子真空控制器進(jìn)行旋蒸系統(tǒng)的真空控制。

Hei-VAC Control電子真空控制器，通過(guò)控制器內(nèi)置的真空傳感器、調(diào)節(jié)閥和排氣閥，可輕松將真空系統(tǒng)升級(jí)為電子控制，使整個(gè)蒸餾過(guò)程更加高效，蒸餾條件更穩(wěn)定溫和，可有效避免樣品暴沸及沖料的情況，是經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的數(shù)字真空控制。

Hei-VAC Control

電子真空控制器

適用于手動(dòng)真空系統(tǒng)或閥控真空泵的精確真空控制，并配有集成陶瓷真空傳感器，調(diào)節(jié)閥和排氣閥。

經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的數(shù)字真空控制選項(xiàng)
陶瓷真空傳感器具有良好的耐化學(xué)性，測(cè)量精度高，不受氣體類型影響
易于固定在蒸發(fā)儀上方的冷凝器軸上，或作為獨(dú)立裝置，底座靠近裝置
放氣閥按鈕可快速釋放真空，防止暴沸
曲線圖記錄整個(gè)真空過(guò)程
RS232 接口
支持加載、編輯和儲(chǔ)存多達(dá)10種個(gè)性化程序，包括真空值和時(shí)間的預(yù)設(shè)
多語(yǔ)言菜單窗口（含中文）
安裝、操作簡(jiǎn)便
適用于未自帶真空控制功能的Hei-VAP旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀

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如何避免蒸餾過(guò)程中樣品暴沸？

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