一、1、2、3型機的標配硬件 專為NEXIV VMR設計的、高品質專用物鏡 該物鏡數值孔徑高達 0.35，工作距離長達 50 毫米，經過專門的消畸變設計，可以充分保證工件視窗的窗內測量精度，特別適合于視頻圖象的精密坐標測量。 具有15 倍變焦比的光學頭3 個型號（1、2、3 型）各自有 5 級放大倍率。15倍變焦比的5段自動變焦鏡組，可以在各段（倍率）間進行自由切換，以滿足低倍大視場觀察搜索和高倍精密測量兩方面的需求。
放大倍率與視場（毫米） 
上述總放大倍率為17 英寸液晶顯示器，設置為 SXGA（1280×1024）模式時，顯示器屏幕上的放大倍率。已升級的TTL 激光自動對焦裝置該裝置具有對焦速度快、工作距離長、測量精度高的特點，它可以在低倍條件下實現對具有高度差的狹窄區域的自動對焦。它還可以進行每秒1000 點的高速掃描，實現多種高精度 Z 軸掃描測量。
TTL激光自動對焦裝置的構成 
用激光掃描得到的錫球表面（三維鳥瞰顯示） 高速高精度影象自動對焦由于采用了新的圖象數據處理時序以及逐行掃描CCD，使影象自動對焦具有更高的速度和準確度。影象自動對焦適用于不能使用 TTL 激光自動對焦的場合，例如對傾斜度較大的斜面以及回轉體外側邊界的對焦。利用多重影象自動對焦功能，能夠同時測量視場內多個不同高度的點。多種照明方式VMR 系列有多種照明方式可供選擇，能夠為工件提供理想的照明，這包括：八方向獨立可控LED環形斜照明，分內外兩層照明環，其中：
內環照明（與光軸的夾角為 37度）；
外環照明（與光軸的夾角為 75度）。 反射照明（頂部光）； 透射照明（底部光）。 
8方向LED環形照明 
的照明手段，使您能夠看清通常不易看清的邊界，從而可以準確地檢出邊界。此外，VMR系列的照明條件可以程序控制、記憶，編輯也很方便，可以做多語句同時。 二、高倍機的標配硬件新開發的高倍頭 VMR-Z120X這種新的鏡頭組，通過使用可以相互切換兩個物鏡與變焦頭的有機組合，實現從 1倍到 120 倍的光學放大倍率。該系統在高倍下具有非常高的工件視窗窗內測量重復精度，8 級放大倍率總能使您能找到一個合適的倍率，并且可以實現從低倍大視場搜索，直到最小測量線寬約為1 微米的高倍觀察與精密測量。放大倍率與視場（毫米） 
上述總放大倍率為 17 英寸液晶顯示器，設置為 SXGA（1280×1024）模式時，顯示器屏幕上的放大倍率。低放大倍率 
高放大倍率 
細光束、高分辨率 TTL 激光自動對焦裝置 該裝置配備有高數值孔徑的物鏡，具有激光光束細、光斑直徑小的特點，能夠進行超小激光光點測量。能夠顯著提高在纖薄的透明或半透明材料（如光阻材料）表面，或不規則反射面上對焦及掃描的性能。可以以為每秒1000 點的速度進行高速掃描測量，從而在多種應用中實現超高精度 Z 軸測量。 
TTL激光自動對焦裝置的構成
三種照明類型通過三種 CNC 可控照明____高倍垂直反射與透射、暗場照明，可以向各種工件提供的照明，從而確保各種待測邊界可被準確、可靠地探測。三、LU型機的標配硬件CFI60 光學系統使用代表了尼康光學技術的的CFI60 光學系統，能攝取明亮的、高對比度的圖象，使系統更加適合于大型液晶顯示板及其彩色濾色片的測量。該系統既能通過圖象處理技術實現工件的尺寸測量，又能用于觀察目的。此外，它還可以通過使用高對比度DIC，增強DIC 成象能力。 
LU型光學頭 LU型用CFI60系列物鏡群 通用電動物鏡轉換器通過對電動物鏡轉換器的操控，CNC 測量程序可以改變放大倍率，并為顯微觀察選擇放大倍率以及的物鏡。從測量到數據處理的自動控制易于使用的軟件可控制系統所有的功能，從各種照明的控制，到圖象處理以及載物臺的移動，測量過程實現自動化控制，確保測量結果的準確一致。使用 LU 型時，以下操作需要手動進行：明場與暗場照明的切換；視場光闌及孔徑光闌的設置；起偏器*、檢偏器*與Nomarski 棱鏡的設置。但此項是有電動型選配件的。電動旋轉起偏器／檢偏器（選配）
可選配的電動旋轉起偏器／檢偏器使操作人員能夠根據工件情況優化圖象對比度。這樣在進行 DIC 成象時，可以看到更加明顯的微分干涉效果。
各種 CFI60 物鏡
CFI60 光學系統限度地抑制了雜光，并具有數值孔徑（N.A.）高和工作距離（W.D.）長的特點，所以能夠攝取明亮的、高對比度的圖象。VMR 系列可使用包括 CFI LU 平場 BD在內的各種 CFI60 通用物鏡鏡頭。
*使用EPI系列物鏡時, 需使用LU物鏡轉接環。
LCD觀測用CFI物鏡
*工作距離與玻片厚度較正環的定位有關。
放大倍率及視場大小
*出廠選件為0.5x鏡筒透鏡或1.0x鏡筒透鏡
LCD 物鏡鏡頭的作用請比較使用平場EPI物鏡和LCD物鏡，隔著玻璃時的觀察效果。使用LCD觀測用CFI物鏡，即便是隔著玻璃，圖象依然清晰可見。 
Nomarski DIC 圖象
CFI LU平場BD 20x 物鏡 采用 DIC 顯微術，微小的高度差可以呈現為明亮的高對比度圖象，所以能夠觀察 ACF（各向異性導電膜）焊接過程中的顆粒分布情況。 暗場圖象
CFI LU平場BD 50x 物鏡 | 
